[发明专利]用于测试沉积过程的掩膜组件、沉积装置和测试方法有效
申请号: | 201310189944.3 | 申请日: | 2013-05-21 |
公开(公告)号: | CN103668046B | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 金珉镐;车裕敏;朴锡焕 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C14/02 | 分类号: | C23C14/02;C23C14/00 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司11018 | 代理人: | 张红霞,周艳玲 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于测试沉积过程的掩膜组件、沉积装置和测试方法。所述沉积装置包括沉积源、沉积室、掩膜组件和传送单元。所述掩膜组件包括支撑构件、遮挡构件和驱动构件。所述支撑构件具有被构造为在支撑基底基板的同时允许沉积材料经过的第一开口,所经过的沉积材料被沉积在所述基底基板上。所述遮挡构件被容纳在所述支撑构件中,并且具有比所述第一开口小的第二开口。所述驱动构件被构造为根据所述掩膜组件的移动来改变所述第二开口相对于所述基底基板的位置。 | ||
搜索关键词: | 用于 测试 沉积 过程 组件 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种用于测试沉积过程的掩膜组件,包括:支撑构件,具有被构造为允许沉积材料经过的第一开口,所述支撑构件支撑基底基板,所经过的沉积材料在所述支撑构件沿第一方向移动的同时被沉积在所述基底基板上;遮挡构件,被容纳在所述支撑构件中,并且具有比所述第一开口小的第二开口;和驱动构件,被构造为响应所述支撑构件的移动而旋转,并使所述遮挡构件响应所述驱动构件的旋转而相对于所述基底基板移动,其中,所述基底基板相对于所述支撑构件不移动。
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