[发明专利]光刻机设备用离轴照明装置有效
申请号: | 201310096136.2 | 申请日: | 2013-03-22 |
公开(公告)号: | CN103149809A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
发明(设计)人: | 杨宝喜;宋强;朱菁;陈明;胡中华;肖艳芬;刘蕾;王俊;张方;黄惠杰 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B27/09;G02B27/28 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种光刻机设备用离轴照明装置,其特点在于该装置包括照明单元、衍射光学元件单元、变焦准直镜组、四分之一波片、负轴锥镜、45°旋光片和正轴锥镜;所述的照明单元由准分子激光器和扩束准直镜组组成。本发明对光刻机可实现双环照明,双二极照明,双四极照明。 | ||
搜索关键词: | 光刻 备用 照明 装置 | ||
【主权项】:
一种光刻机设备用离轴照明装置,其特征在于该装置包括照明单元、衍射光学元件单元(301)、变焦准直镜组(302)、四分之一波片(401)、负轴锥镜(501)、45°旋光片(402)和正轴锥镜(502);所述的照明单元由准分子激光器(101)和扩束准直镜组(201、202)组成;上述元件的位置关系如下:沿着所述的准分子激光器(101)的激光传输方向,依次是同光轴的扩束准直镜组(201、202)、衍射光学元件单元(301)、变焦准直镜组(302)、四分之一波片(401)、负轴锥镜(501)、旋光器(402)、正轴锥镜(502),所述的负轴锥镜(501)、旋光器(402)和正轴锥镜(502)位于所述的变焦准直镜组(302)的后焦面(601)之前;所述的衍射光学元件单元(301)位于所述的变焦准直镜组(302)的前焦面处;所述的负轴锥镜(501)锥面的内环镀有增透膜,该薄膜的外半径略大于入射光束半径;该负轴锥镜锥面外环上镀的高反射薄膜,该高反射膜是全反射相位延迟薄膜,该薄膜的内半径等于所述的增透膜的外半径,外半径等于负轴锥镜的通光口径;所述的正轴锥镜(502)的偏振分光薄膜,镀在锥面上,并完全覆盖整个锥面,所述的四分之一波片(401)的快轴与入射光的偏振方向成45°角;所述的正轴锥镜(502)安装在一个沿光轴方向移动的高精度直线导轨上。
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