[发明专利]光刻机设备用离轴照明装置有效

专利信息
申请号: 201310096136.2 申请日: 2013-03-22
公开(公告)号: CN103149809A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 杨宝喜;宋强;朱菁;陈明;胡中华;肖艳芬;刘蕾;王俊;张方;黄惠杰 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B27/09;G02B27/28
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种光刻机设备用离轴照明装置,其特点在于该装置包括照明单元、衍射光学元件单元、变焦准直镜组、四分之一波片、负轴锥镜、45°旋光片和正轴锥镜;所述的照明单元由准分子激光器和扩束准直镜组组成。本发明对光刻机可实现双环照明,双二极照明,双四极照明。
搜索关键词: 光刻 备用 照明 装置
【主权项】:
一种光刻机设备用离轴照明装置,其特征在于该装置包括照明单元、衍射光学元件单元(301)、变焦准直镜组(302)、四分之一波片(401)、负轴锥镜(501)、45°旋光片(402)和正轴锥镜(502);所述的照明单元由准分子激光器(101)和扩束准直镜组(201、202)组成;上述元件的位置关系如下:沿着所述的准分子激光器(101)的激光传输方向,依次是同光轴的扩束准直镜组(201、202)、衍射光学元件单元(301)、变焦准直镜组(302)、四分之一波片(401)、负轴锥镜(501)、旋光器(402)、正轴锥镜(502),所述的负轴锥镜(501)、旋光器(402)和正轴锥镜(502)位于所述的变焦准直镜组(302)的后焦面(601)之前;所述的衍射光学元件单元(301)位于所述的变焦准直镜组(302)的前焦面处;所述的负轴锥镜(501)锥面的内环镀有增透膜,该薄膜的外半径略大于入射光束半径;该负轴锥镜锥面外环上镀的高反射薄膜,该高反射膜是全反射相位延迟薄膜,该薄膜的内半径等于所述的增透膜的外半径,外半径等于负轴锥镜的通光口径;所述的正轴锥镜(502)的偏振分光薄膜,镀在锥面上,并完全覆盖整个锥面,所述的四分之一波片(401)的快轴与入射光的偏振方向成45°角;所述的正轴锥镜(502)安装在一个沿光轴方向移动的高精度直线导轨上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所,未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310096136.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top