[发明专利]光刻机设备用离轴照明装置

权利要求书

1.一种光刻机设备用离轴照明装置，其特征在于该装置包括照明单元、衍射光学元件单元（301）、变焦准直镜组（302）、四分之一波片（401）、负轴锥镜（501）、45°旋光片（402）和正轴锥镜（502）；所述的照明单元由准分子激光器（101）和扩束准直镜组（201、202）组成；

上述元件的位置关系如下：

沿着所述的准分子激光器（101）的激光传输方向，依次是同光轴的扩束准直镜组（201、202）、衍射光学元件单元（301）、变焦准直镜组（302）、四分之一波片（401）、负轴锥镜（501）、旋光器（402）、正轴锥镜（502），所述的负轴锥镜（501）、旋光器（402）和正轴锥镜（502）位于所述的变焦准直镜组（302）的后焦面（601）之前；所述的衍射光学元件单元（301）位于所述的变焦准直镜组（302）的前焦面处；

所述的负轴锥镜（501）锥面的内环镀有增透膜，该薄膜的外半径略大于入射光束半径；该负轴锥镜锥面外环上镀的高反射薄膜，该高反射膜是全反射相位延迟薄膜，该薄膜的内半径等于所述的增透膜的外半径，外半径等于负轴锥镜的通光口径；

所述的正轴锥镜（502）的偏振分光薄膜，镀在锥面上，并完全覆盖整个锥面，所述的四分之一波片（401）的快轴与入射光的偏振方向成45°角；所述的正轴锥镜（502）安装在一个沿光轴方向移动的高精度直线导轨上。

2.根据权利要求1所述的光刻机设备用离轴照明装置，其特征在于所述的玻璃光学元件均采用熔融石英制成。

3.根据权利要求1所述的光刻机设备用离轴照明装置，其特征在于所述的负轴锥镜锥面的内环上镀的增透膜，对入射光的透过率接近100%，该薄膜的外半径略大于入射光束半径；所述的负轴锥镜锥面外环上镀的高反射薄膜，对入射光的反射率接近100%，并且所述的负轴锥镜锥面上所镀的高反射膜是全反射相位延迟薄膜，该薄膜具有反射的P光和S光相位保持一致的特性，该薄膜的内半径等于所述增透膜的外半径，外半径等于负轴锥镜的通光口径。

4.根据权利要求1所述的光刻机设备用离轴照明装置，其特征在于所述的正轴锥镜的偏振分光薄膜，镀在锥面上，并完全覆盖整个锥面，其特性为对S光反射率接近100%，对P光的透过率接近100%。

5.根据权利要求1至4任一项所述的光刻机设备用离轴照明装置，其特征在于所述的负轴锥镜和正轴锥镜的口径取值应略大于所述的双环照明模式外环外半径R₂的最大要求值，所述的轴锥镜底角r的取值应介于5°～20°。