[发明专利]曝光装置及曝光方法、图案膜的制造方法

摘要

本发明涉及曝光装置及曝光方法、图案膜的制造方法。用支承辊（25）支撑第一处理膜（10A）并进行输送。与支承辊接近地设置有掩模（28），来自光源的光隔着掩模对第一处理膜（10A）进行照射。在掩模（28）上形成有沿宽度方向排列的多条狭缝（29）。支撑辊（25）的直径为300mm～800mm的范围内。光源对所述光反应性膜的曝光量为100mJ/cm2以下。在支撑辊（25）的驱动轴（26）的两端设置有组合角接触球轴承（27）。组合角接触球轴承（27）可以吸收由于施加于驱动轴（26）上的径向负载和两方向的轴向负载所产生的负荷。

主权项

一种曝光装置，其是通过隔着掩模对光反应性膜照射光而使所述光反应性膜曝光的曝光装置，其特征在于，具备：金属制的支撑辊，其具有对表面上形成有光反应性膜的可挠性料片的背面进行支撑的周面，并以10m/分钟以上的速度来输送所述被支撑的可挠性料片，并且所述支撑辊的直径为300mm～800mm的范围内；组合角接触球轴承，其设置于所述支撑辊的旋转轴的两端，并吸收由于施加于所述支撑辊的旋转轴上的径向负载和两方向的轴向负载所产生的负荷；光源，其朝着形成在所述被支撑的所述可挠性料片上的所述光反应性膜，以100mJ/cm2以下的曝光量对所述光反应性膜照射引起光反应的光；掩模，其以接近所述支撑辊的状态配置于所述光源和所述支撑辊之间，并具有使来自所述光源的光通过的狭缝，所述狭缝在所述可挠性料片的输送方向上延伸，并在所述可挠性料片的宽度方向上以一定间距排列有多条。