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[发明专利]多能干细胞的传代方法-CN201780027882.2有效
发明人： 香川英章;后藤俊;小桥创一;中辻宪夫;饗庭一博 -专利权人：富士胶片株式会社;国立大学法人京都大学
申请日： 2017-04-24 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： C12N5/0735 文献下载
摘要：本公开提供一种适合大量培養的多能干细胞的传代方法。多能干细胞的传代方法包括如下工序：培养工序，培养多能干细胞来得到细胞块；以及分割工序，将细胞块以15cm/sec以上且150cm/sec以下的速度通过具有每个开口尺寸为30μm以上且80μm以下的多个通孔的筛网状膜，由此分割细胞块。
多能干细胞传代方法

[发明专利]细胞培养袋以及细胞培养方法-CN201580054974.0有效
发明人： 香川英章;小桥创一;山崎英数 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2015-10-08 - 公布日： 2019-07-09 - 主分类号： C12M1/00 文献下载
摘要：细胞培养袋(10)具备：多个管状部(11)，其具有透气性，其管轴方向朝向第1方向，并且在与第1方向交叉的第2方向上并置且彼此以隔壁隔开；以及连通部(12)，其具有透气性，其使多个管状部(11)中彼此相邻的各两个管状部(11)在所述管状部(11)的一端与另一端之间的中间区域(R)连通。
细胞培养以及方法

[发明专利]细胞悬液的膜分离方法以及细胞培养装置-CN201780039579.4在审
发明人： 香川英章;永井洋一;中居真一;小桥创一;武井俊树 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2017-06-12 - 公布日： 2019-03-01 - 主分类号： C12M3/02 文献下载
摘要：本公开提供一种能够适当地分离细胞与碎片的细胞悬液的膜分离方法以及细胞培养装置。即，使用滤膜进行细胞悬液的膜分离处理，所述滤膜具有：入侧开口，形成在一个面上；以及出侧开口，形成在另一个面上且与入侧开口连通，并且入侧开口与出侧开口在与膜表面平行的方向上配置在错开的位置上。
细胞悬液入侧细胞培养装置开口侧开口膜分离滤膜膜分离处理分离细胞膜表面错开连通平行配置

[发明专利]细胞培养装置以及细胞培养方法-CN201680006205.8在审
发明人： 香川英章;后藤俊;小桥创一;山崎英数 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2016-01-20 - 公布日： 2017-09-26 - 主分类号： C12M3/00 文献下载
摘要：培养容器具有第1流入口以及第1流出口。第1流路连接第1流出口和第1流入口。储存容器设置在第1流路内，且具有与第1流出口连接的第2流入口以及与第1流入口连接的第2流出口。第2流路连接位于第2流出口与第1流入口之间的第1流路内的第1部位和位于第2流入口与第1流出口之间的第1流路内的第2部位。分割处理部设置在第2流路内，且进行分割经由第1部位从第1流路流入的细胞团块的分割处理，并使已进行分割处理的细胞经由第2部位向第1流路内流出。培养基供给部向第1流路内供给培养基。
细胞培养装置以及方法

[发明专利]偏振片的制造方法-CN201480052976.1在审
发明人： 香川英章;冲和宏 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-09-26 - 公布日： 2016-05-11 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：通过本发明可提供一种偏振片的制造方法，其包括：(1)准备包含临时支撑体与含有光学各向异性层(1)及光学各向异性层(2)的转印体的转印材料；(2)剥离上述临时支撑体，而使上述临时支撑体与上述转印体分离；以及(3)使上述转印体粘接于包含起偏器的膜上，其中，光学各向异性层(1)及光学各向异性层(2)均为由涂布于上述临时支撑体上的含有液晶化合物的聚合性组合物形成的层，并且光学各向异性层(1)及光学各向异性层(2)均具有面内的延迟，光学各向异性层(1)及光学各向异性层(2)的慢轴方向彼此相差3°～90°。通过本发明的制造方法，可使多种具有光学补偿性能的光学各向异性层以最小限度的结构与多种起偏器粘接。
偏振制造方法

[发明专利]偏振片及其制造方法以及转印材料-CN201480029246.X在审
发明人： 香川英章;冲和宏 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-05-20 - 公布日： 2016-01-06 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：根据本发明提供一种偏振片及所述偏振片的制造方法，所述偏振片包含：偏振器；及光学各向异性层，其为通过以下方式而形成于上述偏振器的至少一个面侧的层，即对包含液晶化合物的聚合性组成物进行光照射而使上述液晶化合物聚合，所述偏振片在上述光学各向异性层与上述偏振器之间，仅包含粘接层，或仅包含粘接层及设置于上述偏振器的表面的保护膜，上述偏振片的制造方法包括：将包含临时支撑体与光学各向异性层的转印材料积层于包含偏振器的膜上，然后将上述转印材料的临时支撑体剥离。根据本发明，能够提供一种膜厚较小的偏振片。
偏振及其制造方法以及材料

[发明专利]偏振片及其制造方法以及光学膜材料-CN201480029229.6在审
发明人： 香川英章;冲和宏 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-05-20 - 公布日： 2016-01-06 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：根据本发明能够提供一种偏振片及其制造方法，所述偏振片包含偏振器，且在上述偏振器的至少一个面侧包含光学膜，所述光学膜包含取向层、光学各向异性层及光学各向同性的丙烯酸聚合物层，上述光学各向异性层为通过以下方式而形成的层，即对直接涂布于上述取向层的包含液晶化合物的聚合性组成物进行光照射而使上述液晶化合物聚合，上述丙烯酸聚合物层为通过以下方式而形成的层，即使直接涂布于由包含上述液晶化合物的聚合性组成物形成的层的表面的包含(甲基)丙烯酸酯的聚合性组成物固化，上述丙烯酸聚合物层的膜厚大于所述光学各向异性层的膜厚。根据本发明能够提供一种膜厚较小的偏振片。
偏振及其制造方法以及光学材料

[发明专利]光学薄膜材料、光学薄膜、偏振片的制造方法及偏振片-CN201480016677.2有效
发明人：冲和宏;香川英章;马岛涉 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-03-17 - 公布日： 2015-12-23 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明提供一种光学薄膜材料，作为可提供膜厚薄的偏振片的光学薄膜材料，包含具有摩擦处理过的面的由拉伸薄膜形成的层、光学各向异性层、和光学上各向同性的丙烯酸类聚合物层；上述光学各向异性层是通过对直接涂布在上述面上的包含液晶化合物的聚合性组合物进行光照射、使上述液晶化合物聚合而形成的层；上述丙烯酸类聚合物层是通过使直接涂布在由上述的包含液晶化合物的聚合性组合物而形成的层的表面上的包含(甲基)丙烯酸酯的聚合性组合物固化而形成的层，且上述丙烯酸类聚合物层的膜厚大于上述光学各向异性层的膜厚。本发明另外提供一种从上述光学薄膜材料中将由拉伸薄膜形成的层剥离而得到的光学薄膜、包含上述光学薄膜的偏振片及其制造方法。
光学薄膜材料偏振制造方法

[发明专利]曝光装置及曝光方法、图案膜的制造方法-CN201310063956.1无效
发明人： 香川英章;大场孝浩 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-02-28 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及曝光装置及曝光方法、图案膜的制造方法。用支承辊（25）支撑第一处理膜（10A）并进行输送。与支承辊接近地设置有掩模（28），来自光源的光隔着掩模对第一处理膜（10A）进行照射。在掩模（28）上形成有沿宽度方向排列的多条狭缝（29）。支撑辊（25）的直径为300mm～800mm的范围内。光源对所述光反应性膜的曝光量为100mJ/cm2以下。在支撑辊（25）的驱动轴（26）的两端设置有组合角接触球轴承（27）。组合角接触球轴承（27）可以吸收由于施加于驱动轴（26）上的径向负载和两方向的轴向负载所产生的负荷。
曝光装置方法图案制造

[发明专利]曝光装置及曝光方法、图案膜的制造方法-CN201310064443.2无效
发明人： 香川英章;冲和宏 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-02-28 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及曝光装置及曝光方法、图案膜的制造方法。用支承辊支撑第一处理膜（10A）并进行输送。与支承辊接近地设置有掩模（28），来自光源的光隔着掩模对第一处理膜（10A）进行照射。在掩模（28）上形成有沿宽度方向排列的多条狭缝（29）。掩模（28）具有矩形的板（28A）、形成在板（28A）的一面上的掩蔽膜（28B）以及形成在掩蔽膜（28B）上的高折射率层（28C）。高折射率层（28C）由对光源的光具有透射性并具有板（28A）的材质的折射率以上的折射率的原材料形成。
曝光装置方法图案制造

[发明专利]曝光装置及固化膜的形成方法-CN201210448646.7有效
发明人： 香川英章;佐野贵之;冲和宏 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-09-28 - 公布日： 2013-04-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置以及固化膜的形成方法，曝光机(44)具备金属制的支撑辊(41)、光源(52)、光掩膜板(56)及掩膜支撑部(57)。支撑辊(41)从背面通过周面(41A)一边支撑一边输送表面形成有固化性膜(27)的支撑薄膜(13)。光源(52)向被支撑辊(41)支撑的支撑薄膜(13)上的固化性膜(27)放出固化光。光掩膜板(56)遮挡固化光。光掩膜板(56)以与支撑辊(41)靠近的方式配置于光源(52)及支撑辊(41)之间，具有向X方向延伸且沿Y方向排列的狭缝(56S)。掩膜支撑部(57)配置于光掩膜板(56)和支撑辊(41)之间，从支撑辊(41)侧支撑光掩膜板(56)。掩膜支撑部(57)与光掩膜板(56)相比，固化光更容易散射。
曝光装置固化形成方法

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