[发明专利]一种去除光刻胶的溶液及其应用无效
| 申请号： | 201310039421.0 | 申请日： | 2013-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN103076725A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 唐·伯克曼;阴志先;马嘉 | 申请（专利权）人： | 北京七星华创电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王朋飞;张庆敏 |
| 地址： | 100015 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种去除光刻胶的溶液及其应用，所述溶液包括A组分和B组分，A组分为硫酸和过氧化氢混合溶液，B组分为聚乙二醇辛基苯基醚。使用时，将A组分和B组分按9：1的重量比混合。本发明首次将聚乙二醇辛基苯基醚作为表面活性剂用于去除光刻胶的溶液中，它可溶于水，容易稀释，当与硫酸和过氧化氢混合时可以使溶液达到很高的温度。与硫酸和过氧化氢混合物相比，含有聚乙二醇辛基苯基醚的混合液可以更快地溶解离子植入光刻胶。聚乙二醇辛基苯基醚可以保证在更短的处理时间内完成该特殊的处理过程，达到更加完整的去除效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 去除 光刻 溶液 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种去除光刻胶的溶液，其特征在于，包括A组分和B组分，A组分为硫酸和过氧化氢混合溶液，B组分为聚乙二醇辛基苯基醚。
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