[发明专利]溅射靶及其制造方法有效
| 申请号： | 201280021123.2 | 申请日： | 2012-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN103534381A | 公开（公告）日： | 2014-01-22 |
| 发明（设计）人： | 张守斌;小路雅弘 | 申请（专利权）人： | 三菱综合材料株式会社;昭和砚壳石油株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C9/00;H01L31/04 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人： | 苏萌;钟守期 |
| 地址： | 日本东京*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供了一种溅射靶及其制造方法，所述溅射靶可通过溅射法形成良好地添加了Na的、Ga添加浓度为1-40原子%的Cu-Ga膜。其作为溅射靶的除F、S、Se之外的金属成分，含有Ga：1-40at%、Na：0.05-2at%，剩余部分具有由Cu和不可避免的杂质组成的成分组成；Na以氟化钠、硫化钠、硒化钠中的至少一种的状态含有，含氧量为100-1000ppm。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
溅射靶，其特征在于，作为溅射靶的除F、S、Se之外的金属成分，含有Ga：1‑40at%、Na：0.05‑2at%，剩余部分具有由Cu和不可避免的杂质组成的成分组成，Na以氟化钠、硫化钠、硒化钠中的至少一种的状态含有，含氧量为100‑1000ppm。
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