[发明专利]研磨垫无效
申请号: | 201280008992.1 | 申请日: | 2012-02-08 |
公开(公告)号: | CN103347652A | 公开(公告)日: | 2013-10-09 |
发明(设计)人: | 竹内奈奈;福田诚司;奥田良治;笠井重孝 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
主分类号: | B24B37/26 | 分类号: | B24B37/26;B24B37/22;H01L21/304 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 朱美红;杨楷 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种至少具有研磨层和垫层的研磨垫,在其研磨面上具有槽;研磨面和上述槽的与研磨面连续的侧面所成的角度的至少一方为105度以上、150度以下,上述垫层的应变常数为7.3×10-6μm/Pa以上、4.4×10-4μm/Pa以下;通过使用这样的研磨垫,能够解决在保持较高的研磨速率的同时抑制研磨速率的变动的课题。 | ||
搜索关键词: | 研磨 | ||
【主权项】:
一种研磨垫,至少具有研磨层和垫层,其特征在于,在其研磨面上具有槽;研磨面和上述槽的与研磨面连续的侧面所成的角度的至少一方为105度以上、150度以下,上述垫层的应变常数为7.3×10-6μm/Pa以上、4.4×10-4μm/Pa以下。
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