[实用新型]加热装置及化学气相沉积设备有效
申请号: | 201220748875.6 | 申请日: | 2012-12-29 |
公开(公告)号: | CN203007406U | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 乔徽 | 申请(专利权)人: | 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/458 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 314300 浙江省嘉兴市浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种加热装置。所述加热装置包括托盘和位于所述托盘下方的加热器,所述加热器包括多个加热区域;还包括多个气体填充单元;所述多个气体填充单元分别向所述加热器的各个加热区域与托盘之间的间隙中提供的缓冲气体的热传导系数不同,则在对应不同加热区域的间隙中的缓冲气体的导热能力不同,这样就能够较佳的调整托盘的温度。包含该加热装置的化学气相沉积设备在化学气相沉积过程中,能够获得更好的加热效果,避免了对衬底的不同区域加热不同的问题,从而保证了CVD过程较佳的进行。 | ||
搜索关键词: | 加热 装置 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种加热装置,包括托盘和位于所述托盘下方的加热器,所述托盘和加热器之间具有间隙,所述加热器包括多个加热区域,所述多个加热区域分别正对所述托盘的不同区域;其特征在于,还包括多个气体填充单元;所述多个气体填充单元分别向所述加热器的各个加热区域与托盘之间的间隙中提供的缓冲气体的热传导系数不同;其中,所述多个加热区域对所述托盘进行独立加热。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的