[实用新型]化学气相沉积设备

摘要

本实用新型公开了一种化学气相沉积设备。采用了多个生长腔室，将沉积的多层材料层分在多个生长腔室内进行，至少两个生长腔室用于生长多层材料层的不同层材料层，如此一方面使得不同的生长腔室能够很容易满足不同材料层生长的温度、压强等条件不同的需要，有利于各层材料层的正常生长；另一方面，各个生长腔室可以较佳的控制反应时间，从而使得生产过程中尽可能的避免某一或某些腔室处于等待状态的问题，大大的提高了生产效率。

主权项

一种适用于在衬底上沉积多层材料层的化学气相沉积设备，其包括传送腔室、多个生长腔室及多个门阀，所述多个生长腔室分别位于所述传送腔室的外侧，并皆通过所述门阀与所述传送腔室相接通；其特征在于，所述化学气相沉积设备进一步包括基座，至少一个基片承载在所述基座上，所述基座携带所述基片依次传输到所述多个生长腔室中以在所述基片上完成所述多层材料层的沉积，所述基座的数量与所述多个生长腔室相对应；其中，至少两个所述生长腔室用于生长所述多层材料层的不同层材料层。