[实用新型]基于空间光调制器的无掩膜图形曝光系统有效
| 申请号： | 201220410427.5 | 申请日： | 2012-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN202916586U | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 丁海生;李东昇;马新刚;江忠永;张昊翔;李超 | 申请（专利权）人： | 杭州士兰明芯科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/09 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 310018 浙江省杭州市杭*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型揭示了一种基于空间光调制器的无掩膜图形曝光系统，沿光轴方向依次包括：照明光源，与所述照明光源配套的光束整形系统，空间光调制器，与所述空间光调制器配套的偏振光学器件，投影透镜及晶片支撑架；所述晶片支撑架上固定待曝光的晶片，所述空间光调制器与所述晶片支撑架关于所述投影透镜满足物像共轭关系，照明光源发出的光经光束整形系统整形成为适合空间光调制器尺寸大小的均匀照明光束，照亮所述空间光调制器，在所述配套的偏振光学器件的配合作用下，所述空间光调制器可通过计算机的控制显示各种图形结构，后续再经投影透镜投影成像到晶片上，便可对晶片实施无掩膜曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 空间 调制器 无掩膜 图形 曝光 系统 | ||
【主权项】：
一种基于空间光调制器的无掩膜图形曝光系统，其特征在于，沿光轴方向依次包括：照明光源，与所述照明光源配套的光束整形系统，空间光调制器，与所述空间光调制器配套的偏振光学器件，投影透镜及晶片支撑架；所述晶片支撑架上固定待曝光的晶片，所述空间光调制器与所述晶片支撑架关于所述投影透镜满足物像共轭关系。
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