[发明专利]一种光刻版结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201210579774.5 申请日: 2012-12-27
公开(公告)号: CN103048875A 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 袁伟 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: G03F1/48 分类号: G03F1/48
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;林彦之
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种光刻版结构,包括:一个基板,位于基板表面的光刻版图形,在光刻版图形表面覆盖有一层或多层透明保护层,位于透明保护层上方的蒙膜,蒙膜将光刻版图形区域罩住;本发明还提供上述光刻版结构的制造方法,包括:在基板表面制备光刻版图形;在光刻版图形的表面形成一层或多层透明保护层;在基板上安装蒙膜。本发明通过在光刻版图形的表面沉积一层或多层透明保护层,对光刻版图形起到保护作用,可以减少和预防光刻版图形表面生成结晶缺陷,从而提高光刻版的投影准确度和良率产出,并且减少光刻版送修的几率,延长光刻版的使用寿命。
搜索关键词: 一种 光刻 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
一种光刻版结构,包括一个基板,位于所述基板表面的光刻版图形,位于所述光刻版图形上方的蒙膜,所述蒙膜将所述光刻版图形区域罩住,其特征在于:在所述光刻版图形表面覆盖有一层或多层透明保护层,所述透明保护层位于所述蒙膜的下方。
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