[发明专利]磁控溅射源驱动装置及磁控溅射加工设备有效
| 申请号： | 201210539550.1 | 申请日： | 2012-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN103866250A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 邱国庆;武学伟 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种磁控溅射源驱动装置及磁控溅射加工设备，包括壳体、驱动源和传动单元，壳体与驱动源的转轴固定连接；传动单元设置在壳体内，并分别与驱动源的转轴和磁控溅射源连接；传动单元包括：第一锥齿轮、第二锥齿轮、联动杆和转向组件，第一锥齿轮相对于壳体可自转地套制在所述驱动源的转轴上；联动杆的轴线与驱动源的转轴的轴线相互垂直，第二锥齿轮设置在所述联动杆的一端，且与第一锥齿轮相配合；转向组件包括第一转向件和第二转向件，第一转向件设置在联动杆的另一端；第二转向件与第一转向件相配合，并且第二转向件与磁控溅射源连接。上述磁控溅射源驱动装置，不仅可以使磁控管完全覆盖靶材，还可以提高磁控管的运行轨迹的分布密度。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 驱动 装置 加工 设备 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射源驱动装置，包括壳体、驱动源和传动单元，其中，所述壳体与所述驱动源的转轴固定连接；所述传动单元设置在所述壳体内，并分别与所述驱动源的转轴和磁控溅射源连接；在所述驱动源的驱动下，所述壳体、传动单元和磁控溅射源绕所述驱动源的转轴作旋转运动，同时，所述磁控溅射源在所述传动单元的带动下作旋转运动；其特征在于，所述传动单元包括：第一锥齿轮、第二锥齿轮、联动杆和转向组件，其中所述第一锥齿轮相对于所述壳体可自转地套制在所述驱动源的转轴上；所述联动杆的轴线与所述驱动源的转轴的轴线相互垂直，所述第二锥齿轮设置在所述联动杆的一端，且与所述第一锥齿轮相配合；所述转向组件包括第一转向件和第二转向件，其中，所述第一转向件设置在所述联动杆的另一端；所述第二转向件与所述第一转向件相配合，并且所述第二转向件与所述磁控溅射源连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，未经北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210539550.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
