[发明专利]超高数值孔径光刻成像偏振补偿装置及方法有效
| 申请号： | 201210528727.8 | 申请日： | 2012-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN103869626A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 孙文凤 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/03 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种超高数值孔径光刻成像偏振补偿装置，包括：一光源，用于提供一照明光束；一照明单元，用于将该照明光束调整为曝光光束并照射一掩模板；一投影物镜，用于将透射过该掩模板的成像光束成像至一硅片上；一偏振补偿装置，用于偏振调制该曝光光束或/和该成像光束，该偏振补偿装置位于该照明单元及该掩模板之间或者位于该投影物镜以及该硅片之间。 | ||
| 搜索关键词： | 超高 数值孔径 光刻 成像 偏振 补偿 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种超高数值孔径光刻成像偏振补偿装置，其特征在于，包括：一光源，用于提供一照明光束；一照明单元，用于将所述照明光束调整为曝光光束并照射一掩模板； 一投影物镜，用于将透射过所述掩模板的成像光束成像至一硅片上； 一偏振补偿装置，用于偏振调制所述曝光光束或/和所述成像光束，所述偏振补偿装置位于所述照明单元及所述掩模板之间或者位于所述投影物镜以及所述硅片之间。
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