[发明专利]半导体光发射装置无效

专利信息
申请号: 201210442010.1 申请日: 2012-11-07
公开(公告)号: CN103811996A 公开(公告)日: 2014-05-21
发明(设计)人: 耿振民 申请(专利权)人: 无锡华御信息技术有限公司
主分类号: H01S5/10 分类号: H01S5/10;H01S5/14
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 温子云
地址: 214081 江苏省无锡市滨*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种半导体光发射装置,包括半导体本体(1),该半导体本体具有表面发射性的包括垂直发射极层(3)的垂直发射极区域(2),至少一个设置用于光学抽运所述垂直发射极层(3)的抽运源(4),和辐射穿透表面(26),在所述垂直发射极层中产生的电磁辐射(31)通过该辐射穿透表面(26)离开,其特征在于还包括:光学变频非线性晶体(32),谐振腔反射镜(43),在所述光学变频非线性晶体靠近所述反射镜(43)的一侧形成有光学涂层(42),谐振腔反射镜(34)靠近非线性晶体(32)的一侧的反射面与所述涂层(42)靠近上述反射面的一侧的表面之间的距离设置为使得对于所述垂直发射极层(3)发射的基础波和经过非线性晶体(32)后的变频波而言,不满足驻波产生的条件。
搜索关键词: 半导体 发射 装置
【主权项】:
一种半导体光发射装置,包括半导体本体(1),该半导体本体具有‑表面发射性的包括垂直发射极层(3)的垂直发射极区域(2),‑至少一个设置用于光学抽运所述垂直发射极层(3)的抽运源(4),和‑辐射穿透表面(26),在所述垂直发射极层中产生的电磁辐射(31)通过该辐射穿透表面(26)离开,其特征在于还包括:光学变频非线性晶体(32),谐振腔反射镜(43),在所述光学变频非线性晶体靠近所述反射镜(43)的一侧形成有光学涂层(42)谐振腔反射镜(34)靠近非线性晶体(32)的一侧的反射面与所述涂层(42)靠近上述反射面的一侧的表面之间的距离设置为使得对于所述垂直发射极层(3)发射的基础波和经过非线性晶体(32)后的变频波而言,不满足驻波产生的条件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡华御信息技术有限公司,未经无锡华御信息技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210442010.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top