[发明专利]一种基于框架的无载体式封装件的制作工艺无效
| 申请号: | 201210306830.8 | 申请日: | 2012-08-18 |
| 公开(公告)号: | CN102832141A | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
| 发明(设计)人: | 孙青秀 | 申请(专利权)人: | 孙青秀 |
| 主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L21/60 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 710018 陕西省西安市未*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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| 摘要: | 本发明涉及一种基于框架的无载体式封装件的制作工艺,属于集成电路封装技术领域。本发明依次经过晶圆减薄、划片、上芯、做金属凸点、压焊、塑封、去除框架、切割处理;采用普通框架即可进行产品制作流程,无需过多加工框架载体,缩短设计及制作周期,降低成本;在凸点排布及I/O数不受框架设计及制作限制,实现了凸点排布可任意定义,更好得实现芯片与载体的互联;使I/O更加密集,成本更低。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 基于 框架 载体 封装 制作 工艺 | ||
【主权项】:
一种基于框架的无载体式封装件的制作工艺,其特征在于:一种基于框架的无载体式封装件的制作工艺流程如下:(1)、减薄;根据实际需要对晶圆厚度进行减薄处理;(2)、划片;厚度在150μm以上的晶圆,采用普通QFN划片工艺,厚度在150μm以下的晶圆,采用双刀划片机及其工艺;(3)、上芯;采用粘片胶上芯;(4)、做金属凸点;用植球的方法在框架载体上制作金属凸点;(5)、压焊;在芯片和金属凸点、金属凸点之间打键合线;(6)、塑封;(7)、去除框架载体;产品塑封后用腐蚀或者磨屑的方法将框架载体去除;(8)、切割。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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