[发明专利]用于基底表面处理的纳米复合涂层及其制备方法和装置有效
申请号: | 201210240424.6 | 申请日: | 2012-07-12 |
公开(公告)号: | CN102776474A | 公开(公告)日: | 2012-11-14 |
发明(设计)人: | 王守仁;张海平;田希杰;王英姿;乔阳;宋令惠;王敏 | 申请(专利权)人: | 济南大学 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/34 |
代理公司: | 济南舜源专利事务所有限公司 37205 | 代理人: | 崔同磊 |
地址: | 250022 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提供一种用于基底表面处理的纳米复合涂层,所述用于基底表面处理的纳米复合涂层包括附着在基底表面上的Ti过渡层和纳米复合涂层,所述纳米复合涂层由TiN涂层、TiAlN涂层、CrTiAlN涂层交替排列组成,所述Ti过渡层设置在里层,纳米复合涂层设置在表层。其制备装置是在现有磁控溅射设备基础上改进的,其制备方法采用磁控溅射法完成,该一种用于基底表面处理的纳米复合涂层和现有技术相比,硬度高、氧化温度高、热硬性好、附着力强、摩擦系数小和导热率低,适用范围广泛。 | ||
搜索关键词: | 用于 基底 表面 处理 纳米 复合 涂层 及其 制备 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种用于基底表面处理的纳米复合涂层,其特征在于:所述用于基底表面处理的纳米复合涂层包括附着在基底表面上的Ti过渡层和纳米复合涂层,所述纳米复合涂层由TiN、TiAlN、CrTiAlN纳米涂层交替排列组成,所述Ti过渡层设置在里层,纳米复合涂层设置在表层。
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