[发明专利]固态孔阵及其制作方法有效
| 申请号： | 201210226670.6 | 申请日： | 2012-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN103510088A | 公开（公告）日： | 2014-01-15 |
| 发明（设计）人： | 董立军;赵超 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | C23F1/02 | 分类号： | C23F1/02;C23F1/32;B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李可;姜义民 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种固态孔阵及其制作方法，其中固态孔阵的制作方法包括：在衬底的顶面和底面上分别形成底部孔阵基底和顶部孔阵基底；在顶部孔阵基底中形成正面孔；在具有顶部孔阵基底的衬底上形成顶部保护层，并在底部孔阵基底上形成底部保护层；在底部孔阵基底和底部保护层中形成背面窗口；以及通过碱腐蚀蚀穿衬底，以使正面孔与背面窗口连通。此外，本公开还提供了一种固态孔阵。通过本公开的方法，增加了正面薄膜的强度，简化了工艺步骤，降低了成本，同时更适合大规模制造。 | ||
| 搜索关键词： | 固态 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种固态孔阵的制作方法，包括：在衬底的顶面和底面上分别形成底部孔阵基底和顶部孔阵基底；在所述顶部孔阵基底中形成正面孔；在具有所述顶部孔阵基底的所述衬底上形成顶部保护层，并在所述底部孔阵基底上形成底部保护层；在所述底部孔阵基底和所述底部保护层中形成背面窗口；以及通过碱腐蚀蚀穿所述衬底，以使所述正面孔与所述背面窗口连通。
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