[发明专利]一种具有无源金属PN结半导体装置及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201210149037.1 申请日: 2012-05-08
公开(公告)号: CN103390635B 公开(公告)日: 2017-08-08
发明(设计)人: 朱江 申请(专利权)人: 朱江
主分类号: H01L29/167 分类号: H01L29/167;H01L29/86;H01L21/329
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 113200 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明公开了一种具有无源金属PN结半导体装置,当半导体装置接一定的反向偏压时,漂移区的耗尽层在整个无源金属区界面扩展,并且在无源金属区间发生交叠,从而提高器件的反向击穿电压,也可以降低器件的导通电阻;本发明还提供了一种具有无源金属PN结半导体装置的制备方法。
搜索关键词: 一种 具有 无源 金属 pn 半导体 装置 及其 制备 方法
【主权项】:
一种具有无源金属PN结半导体装置,其特征在于:包括:衬底层,为半导体材料构成;漂移层,为第一导电半导体材料,位于衬底层之上;无源金属区,为金属与半导体材料的化合物,无源金属区与半导体材料形成肖特基结势垒,无源金属区位于漂移层中沟槽内侧壁下部,同时沟内填充绝缘材料,无源金属区垂直衬底层方向与第一导电半导体材料交替排列构成,并且其上表面临靠绝缘材料或者第一导电半导体材料;第二导电半导体材料区,位于漂移层上表面,为第二导电半导体材料,并且与无源金属区不相连。
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