[发明专利]一维介孔晶的氧化锌基镍掺杂稀磁半导体及其制备方法有效
申请号: | 201210132777.4 | 申请日: | 2010-08-20 |
公开(公告)号: | CN102642861A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 戴李宗;肖文军;吴廷华;许一婷;罗伟昂 | 申请(专利权)人: | 厦门大学 |
主分类号: | C01G9/02 | 分类号: | C01G9/02;H01F1/40;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 厦门南强之路专利事务所 35200 | 代理人: | 马应森 |
地址: | 361005 *** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 一维介孔晶的氧化锌基镍掺杂稀磁半导体及其制备方法,涉及一种半导体。一维介孔晶的氧化锌基镍掺杂稀磁半导体为过渡金属掺杂ZnO基DMSs一维介孔晶纳米材料,分子式为Zn1-xTMxO,TM为过渡金属,x为掺杂成分的百分比,x=0.01~0.10。将锌盐溶解在离子液体中,加热至溶液透明;往溶液中加入过渡金属盐至全部溶解,得混合溶液;将混合溶液加热回流,自然冷却至室温,将所得到沉淀依次用水和乙醇洗涤,得到的粉末干燥,即得具有室温铁磁性的一维介孔晶的ZnO基稀磁半导体。晶体生长的温度低,设备要求简单,反应条件温和,溶剂非挥发,整个反应过程绿色环保,原料廉价。 | ||
搜索关键词: | 一维介孔晶 氧化锌 掺杂 半导体 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一维介孔晶的氧化锌基镍掺杂稀磁半导体,其特征在于为过渡金属掺杂ZnO基DMSs一维介孔晶纳米材料,其分子式为Zn1‑xTMxO,其中TM为过渡金属,x为掺杂成分的百分比,x=0.01~0.10;所述过渡金属为Ni。
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