[发明专利]发光器件有效

专利信息
申请号: 201210060331.5 申请日: 2012-03-08
公开(公告)号: CN102832305B 公开(公告)日: 2017-12-12
发明(设计)人: 韩大燮;文用泰;沈钟寅 申请(专利权)人: LG伊诺特有限公司;汉阳大学校产学协力团埃丽卡校区
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 蔡胜有,董文国
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了一种发光器件,包括第一导电型半导体层;设置在第一导电型半导体层上的第二导电型半导体层;以及设置在第一导电型半导体层和第二导电型半导体层之间的有源层,有源层包括量子阱层和量子势垒层,其中各个量子势垒层包括第一势垒层和设置在第一势垒层之间的第二势垒层,并且第二势垒层的能带隙大于量子阱层的能带隙并且小于第一势垒层的能带隙。
搜索关键词: 发光 器件
【主权项】:
一种发光器件,包括:第一导电型半导体层;设置在所述第一导电型半导体层上的第二导电型半导体层;以及设置在所述第一导电型半导体层和所述第二导电型半导体层之间的有源层,所述有源层包括量子阱层和量子势垒层,其中各个所述量子势垒层包括第一势垒层和设置在所述第一势垒层之间的第二势垒层;并且所述第二势垒层的能带隙大于所述量子阱层的能带隙并且小于所述第一势垒层的能带隙,以及其中所述第一势垒层和所述第二势垒层中的每一个含有铟,以及其中各个所述第一势垒层的厚度为1nm或更小,以及所述第二势垒层的厚度为5nm或更小,其中所述第一势垒层的能带隙大于所述第一导电型半导体层的能带隙和所述第二导电型半导体层的能带隙,以及其中所述第一导电型半导体层将电子注入所述有源层中并且所述第二导电型半导体层将空穴注入所述有源层中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于LG伊诺特有限公司;汉阳大学校产学协力团埃丽卡校区,未经LG伊诺特有限公司;汉阳大学校产学协力团埃丽卡校区许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210060331.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top