[发明专利]一种光刻曝光剂量的控制装置及控制方法有效
| 申请号： | 201210046182.7 | 申请日： | 2012-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN103293864A | 公开（公告）日： | 2013-09-11 |
| 发明（设计）人： | 罗闻;孙智超 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻机的技术领域，尤其涉及一种光刻曝光剂量的控制装置及控制方法，包括光源、可动刀片及镜头组，三者依次排列，所述光刻曝光剂量的控制装置还包括一设置在上述三者的光路中的可变衰减装置，所述可变衰减装置上排列设有若干通孔，所述若干通孔沿所述可变衰减装置的运动方向逐渐变化，当所述光源光强一定时，通过改变所述可变衰减装置自身的位置或角度使所述可变衰减装置的衰减率均匀变化，对所述光刻曝光剂量作补偿。本发明提供的光刻曝光剂量的控制装置及控制方法，能够降低汞灯电源控制器的设计复杂度，并可提高光刻曝光剂量精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 曝光 剂量 控制 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻曝光剂量的控制装置，包括光源、可动刀片及镜头组，三者依次排列，其特征在于，所述光刻曝光剂量的控制装置还包括一设置在上述三者的光路中的可变衰减装置，所述可变衰减装置上排列设有若干通孔，所述若干通孔沿所述可变衰减装置的运动方向逐渐变化，当所述光源光强一定时，通过改变所述可变衰减装置自身的位置或角度使所述可变衰减装置的衰减率均匀变化，对所述光刻曝光剂量作补偿。
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