[发明专利]用于在激光产生的等离子体远紫外光源中的靶材传送保护的系统和方法有效
| 申请号： | 201180017823.X | 申请日： | 2011-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN102822903A | 公开（公告）日： | 2012-12-12 |
| 发明（设计）人： | I·V·福缅科夫;W·N·帕特洛 | 申请（专利权）人： | 西默股份有限公司 |
| 主分类号： | G21G5/00 | 分类号： | G21G5/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 毛力 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 此处公开一种装置，包括：腔室；用于提供靶材液滴流的源，沿着靶材释放点和照射区域之间的路径将靶材传送到腔室中的照射区域；腔室中的气流，气流中至少有一部分沿朝着液滴流的方向流动；产生激光束的系统，所述激光束照射处于照射区域中的液滴，从而产生等离子体以产生远紫外光辐射；沿着所述液滴流的罩，所述罩具有第一罩部分以屏蔽来自所述气流和相对的开口部分的液滴。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 激光 产生 等离子体 紫外 光源 中的 传送 保护 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种装置，包括：腔室；用于提供靶材流的源，沿着靶材释放点与所述腔室中的照射区域之间的路径将靶材传送到所述照射区域；所述腔室中的气流，所述气流中的至少一部分按照朝着所述靶材流的方向流动；产生激光束的系统，所述激光束照射处于所述照射区域中的靶材，从而产生等离子体以产生远紫外光辐射；以及沿着所述靶材流的一部分定位的罩，所述罩具有第一罩部分，所述第一罩部分屏蔽来自所述气流和相对的开口部分的靶材流。
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- 此处公开一种装置，包括：腔室；用于提供靶材液滴流的源，沿着靶材释放点和照射区域之间的路径将靶材传送到腔室中的照射区域；腔室中的气流，气流中至少有一部分沿朝着液滴流的方向流动；产生激光束的系统，所述激光束照射处于照射区域中的液滴，从而产生等离子体以产生远紫外光辐射；沿着所述液滴流的罩，所述罩具有第一罩部分以屏蔽来自所述气流和相对的开口部分的液滴。
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