[实用新型]硒蒸气快速结晶退火炉结构有效

专利信息
申请号: 201120158555.0 申请日: 2011-05-18
公开(公告)号: CN202178238U 公开(公告)日: 2012-03-28
发明(设计)人: 钟承兆 申请(专利权)人: 正峰新能源股份有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L31/18
代理公司: 北京华夏博通专利事务所 11264 代理人: 刘俊
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 实用新型公开了一种硒蒸气快速结晶退火炉结构,包括硒蒸气输送管路单元、硒蒸气喷洒头单元以及真空腔体,其中具有铜铟镓硒层的基板安置于真空腔体中,且真空腔体具有由透明材料所构成的透明窗口,而硒蒸气输送管路单元将外部输入的硒蒸气输送到硒蒸气喷洒头单元,让硒蒸气均匀喷洒至基板上以添加硒源,同时真空腔体的透明窗口让外部快速加热单元所产生的热辐射穿透并对基板进行加热,增加基板的温度,减少机板及高温硒蒸气之间的温差,藉以实现快速结晶退火处理,并改善基板上铜铟镓硒层的结晶性。
搜索关键词: 蒸气 快速 结晶 退火炉 结构
【主权项】:
一种硒蒸气快速结晶退火炉结构,用以提供对具有铜铟镓硒层的一基板进行快速结晶退火处理,其特征在于,所述硒蒸气快速结晶退火炉结构包括:一硒蒸气输送管路单元,用以将外部输入的高温硒蒸气输送出去;一硒蒸气喷洒头单元,连结至该硒蒸气输送管路单元,用以接收该硒蒸气输送管路单元所输送的硒蒸气,并将该硒蒸气喷洒至该基板上的铜铟镓硒层;以及一真空腔体,具有一真空度,用以容置该硒蒸气喷洒头单元以及该基板,且该真空腔体具有由透明材料所构成的一透明窗口,用以让外部的热辐射经该透明窗口而对该基板进行加热。
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