[发明专利]包含碱‑反应性组分的组合物和光刻方法

摘要

提供新的包含一种或多种具有碱‑反应性基团的材料的光致抗蚀剂组合物，并且其对干燥光刻技术特别有用。特别优选的本发明的光致抗蚀剂在抗蚀剂涂层显影之后可以显示出减少的缺陷。

主权项

一种处理光致抗蚀剂组合物的方法，包含:(a)在基材上施加一种光致抗蚀剂组合物以形成光致抗蚀剂层，其中所述光致抗蚀剂组合物包含：(i)一种或多种树脂、(ii)光敏组分，和(iii)一种或多种包含碱‑反应性基团的材料，所述一种或多种包含碱‑反应性基团的材料与上述一种或多种树脂不同；和(b)干燥曝光上述施加的光致抗蚀剂层以辐射活化光致抗蚀剂组合物，其中，所述(iii)一种或多种包含碱‑反应性基团的材料是一种或多种包含含重复单元的树脂的材料，它由至少一种由以下通式(I)、(II)或(III)表示的单体提供：在通式(I)中，M是包括乙烯基和丙烯酸类基团的可聚合官能团，R是含或不含羧基键的烷基隔离基团，Rf是至少α‑碳原子被氟化的氟代或全氟代烷基；在通式(II)中，M是包括乙烯基和丙烯酸类基团的可聚合官能团，R是含或不含羧基键的C1‑20的线型的或支链的烷基隔离基团，Rf是至少α‑碳原子被氟化的氟代或全氟代烷基，n是等于或大于2的整数；在通式(III)中，M是包括乙烯基和丙烯酸类基团的可聚合官能团，R1是含或不含羧基键的烷基隔离基团，Rf是至少α‑碳原子被氟化的氟代或全氟代的亚烷基基团，R2是烷基。