[发明专利]光刻装置及其光刻方法有效
| 申请号： | 201110416901.5 | 申请日： | 2011-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN103163742A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 李术新;孙刚;段立峰 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光刻装置，包括：产生曝光光束的光源；用于调整所述光源发出的光束的照明装置；用于承载掩模的掩模台；用于对掩模图案进行成像的成像光学系统；用于承载硅片的工件台；和，用于对硅片标记及掩模标记进行对准的机器视觉对准系统；其中，所述机器视觉对准系统具有照明系统、视觉成像系统和用于采集硅片标记或掩模标记所成的像的探测器，所述探测器具有第一探测单元和第二探测单元，所述第一探测单元比所述第二探测单元的捕获范围大、探测精度低。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻装置，包括：产生曝光光束的光源；用于调整所述光源发出的光束的照明装置；用于承载掩模的掩模台；用于对掩模图案进行成像的成像光学系统；用于承载硅片的工件台；和，用于对硅片标记及掩模标记进行对准的机器视觉对准系统；其中，所述机器视觉对准系统具有照明系统、视觉成像系统和用于采集硅片标记或掩模标记所成的像的探测器，所述探测器具有第一探测单元和第二探测单元，所述第一探测单元比所述第二探测单元的捕获范围大、探测精度低。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司，未经上海微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110416901.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
