[发明专利]一种基于层层组装技术制备自修复聚电解质涂层的方法无效
申请号: | 201110287303.2 | 申请日: | 2011-09-26 |
公开(公告)号: | CN102319662A | 公开(公告)日: | 2012-01-18 |
发明(设计)人: | 孙俊奇;王旭 | 申请(专利权)人: | 吉林大学 |
主分类号: | B05D5/12 | 分类号: | B05D5/12;B05D7/00;C09D179/02;C09D133/02;C09D105/04 |
代理公司: | 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 | 代理人: | 张景林;刘喜生 |
地址: | 130012 吉林*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明属于自修复涂层制备技术领域,涉及一种利用层层组装技术制备具有自修复能力的聚电解质涂层的方法。所制备的聚电解质涂层在空气中具有很好的强度。而将这种涂层浸泡到水中或向该涂层喷水时,涂层就具有非常好的流动性,从而可以自发的修复它上面的由于机械损伤造成的巨大的划痕。这种自修复聚电解质涂层具有修复手段易于实现、同一位置多次自修复、涂层的制备不受基底的限制等优点。另外,这种自修复聚电解质涂层的制备方法简单,所用的原料无毒无害,相信这种自修复涂层制备方法的提出会对材料科学、表面化学、聚合物科学等方面的研究有所贡献,这种自修复聚电解质涂层也有望在制备保护涂层,生物材料涂层和显示设备等方面得到广泛的应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 层层 组装 技术 制备 修复 电解质 涂层 方法 | ||
【主权项】:
一种基于层层组装技术制备自修复聚电解质涂层的方法,其步骤如下:A.将聚阳离子构筑基元和聚阴离子构筑基元分别溶于溶剂配成一定浓度、一定pH值的溶液;B.将处理后的基底浸入到聚阳离子溶液中1~30分钟,然后将基底从聚阳离子溶液中取出,水洗除去基底表面物理吸附的物质后经N2吹干;C.将步骤B的基底再浸入到聚阴离子溶液中1~30分钟,然后将基底从聚阴离子溶液中取出,水洗除去基底表面物理吸附的物质后经N2吹干,从而完成一个沉积周期涂层的制备;D.重复步骤B、C,从而在基底上制备得到多个沉积周期的自修复聚电解质涂层。
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