[发明专利]具有阶梯部的定位环有效
| 申请号： | 201110234962.X | 申请日： | 2007-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN102275127A | 公开（公告）日： | 2011-12-14 |
| 发明（设计）人： | 肖恩·范德维恩;史蒂文·M·祖尼格 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B41/06 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 王安武 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及具有阶梯部的定位环。本发明提供一种两部分定位环(101)。刚性上部(110)沿其内径设有环形凹部。环形耐磨下部(105)具有内径、由内径界定的环形延伸部、以及垂直于第二部份的表面且与内径相对的垂直壁。环形延伸部可适配至环形第一部份的环形凹部。环形第二部份的垂直壁上设有结合材料。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 阶梯 定位 | ||
【主权项】：
一种定位环，其包括：上环；和下环，所述下环由在化学机械抛光处理中具有化学惰性的塑料制成，其中，所述下环具有下环下表面和下环上表面，所述下环下表面与抛光垫接触，所述下环上表面位置邻近所述上环的上环下表面，其中，所述下环包括环形阶梯部，所述环形阶梯部邻近所述下环的内径，所述环形阶梯部由所述下环垂直突出至所述上环的对应凹部；和结合层，其位于所述阶梯部和所述凹部之间；其中，所述定位环不具有其它阶梯部和其他对应凹部特征件。
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- 本实用新型公开了一种镜板研磨设备，包括一有中空底座的支撑架I、升降和旋转驱动装置、研磨组件和研磨液添加装置，升降和旋转驱动装置包括与支撑架II滑动联接的旋转驱动装置和与支撑架II活动联接的升降装置，升降装置的输出轴顶端与旋转驱动装置的底部保持接触，研磨组件包括一水平旋臂，研磨盘与水平旋臂滑动联接，工作面向上，旋转轴与水平旋臂固定联接，旋转轴与旋转驱动装置的输出轴通过花键联接，本实用新型可用于水力发电厂水轮发电机组、大型立式水泵等大型设备立式转轴推力轴承的镜板研磨工作，适合大型环状工件的现场平面研磨。
- 晶片研磨装置-201020689791.0
- 奚耀华;夏澍 - 青岛嘉星晶电科技股份有限公司
- 2010-12-30 - 2011-09-28 - B24B37/04
- 本实用新型涉及一种用于蓝宝石衬底晶片的晶片研磨装置。本实用新型提供了一种研磨效率高，减少产品塌边现象的晶片研磨装置，其包括用于支撑研磨装置的元件的基台；用于固定保持晶片的晶片载具；用于支撑晶片载具并安装于基台上的工作台，其包括用以驱动其产生径向往复运动和前后往复运动的第一驱动机构和用以驱动晶片载具自旋的第二驱动机构；位于工作台的上方，用于研磨晶片的研磨机构，其包括研磨头、设置于研磨头上方并用于驱动其自旋的驱动电机和用于固定研磨头的联接部件；位于研磨机构上方，用于对研磨头施加压力的加压机构。本实用新型基本上消除了产品塌边的现象，且采用单研磨头单晶片的方式，大大提高了研磨效率。
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