[发明专利]曝光装置有效
| 申请号： | 201080054737.1 | 申请日： | 2010-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN102640058A | 公开（公告）日： | 2012-08-15 |
| 发明（设计）人： | 水村通伸;桥本和重;畑中诚 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 肖华 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置，其具有：光掩模（10、24），该光掩模形成有与被曝光在TFT用基板（4）的表面上的曝光图案相同形状的掩膜图案，该TFT用基板（4）被保持在载物台（8）上；透镜组装体（11、25），该透镜组装体将多个单元透镜组（15、29）排列在与光掩模（10、24）以及被保持在载物台（80）上的TFT用基板（4）的表面平行的面内，单元透镜组（15、29）是在光掩模（10、24）的法线方向上配置多个凸透镜（14、28）而构成的，能够将形成在所述光掩模（10、24）上的掩膜图案的等倍正立像成像在TFT用基板(4)表面上；和移动单元（12、26），该移动单元使得该透镜组装体（11、25）在与光掩模（10、24）以及载物台（8）上的TFT用基板（4）的表面平行的面内移动。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其特征在于，具有：光掩模，所述光掩模形成有与被曝光在被曝光体的表面上的曝光图案相同形状的掩膜图案，所述被曝光体被保持在载物台上；透镜组装体，所述透镜组装体被配设在所述光掩模和所述载物台之间，将多个单元透镜组排列在与所述光掩模以及被保持在所述载物台上的被曝光体的表面平行的面内，所述单元透镜组是在所述光掩模的法线方向上配置多个凸透镜而构成的，以能够将形成在所述光掩模上的掩膜图案的等倍正立像成像在所述被曝光体表面上；和移动单元，所述移动单元使得所述透镜组装体在与所述光掩模以及所述载物台上的被曝光体的表面平行的面内移动。
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