[发明专利]一种光刻方法和能量反馈系统无效
| 申请号： | 201010601912.6 | 申请日： | 2010-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN102540740A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 胡骏;黄玮 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 常亮;李辰 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种光刻方法和一种能量反馈系统，所述光刻方法包括：建立能量反馈系统和光刻流程中设定的光刻参数的数据连接；能量反馈系统通过所述数据连接获取光刻流程中设定的光刻参数；能量反馈系统根据获取到的光刻参数计算得到曝光参数；能量反馈系统向曝光设备输出所述曝光参数。本发明所提供的技术方案，能够及时自动的获取到光刻流程中设定的光刻参数，使曝光设备能够及时的应用与光刻匹配的曝光参数进行曝光。同时该方法能够实现自动计算并调整曝光参数，无需人工手动操作，能够避免人工操作引起的曝光参数计算或录入错误。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 方法 能量 反馈 系统 | ||
【主权项】：
一种光刻方法，其特征在于，包括：建立能量反馈系统和光刻流程中设定的光刻参数的数据连接；能量反馈系统通过所述数据连接获取光刻流程中设定的光刻参数；能量反馈系统根据获取到的光刻参数计算得到曝光参数；能量反馈系统向曝光设备输出所述曝光参数。
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