[发明专利]一种微纳米尺度散斑的制作方法有效
申请号: | 201010138837.4 | 申请日: | 2010-04-06 |
公开(公告)号: | CN101832759A | 公开(公告)日: | 2010-09-15 |
发明(设计)人: | 谢惠民;李艳杰;王怀喜;朱建国 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G01B11/16 | 分类号: | G01B11/16;B82B1/00 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 邸更岩 |
地址: | 100084 北京市10*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种微纳米尺度散斑的制作方法,属于光测力学技术领域。本发明的技术特点是在聚焦离子束系统这一成熟商品仪器环境下,完成微纳米尺度散斑的制作,该方法可直接在试件表面进行刻蚀,无需掩模板和光刻胶,无温度要求,在常温下即可进行,操作简单。通过比较图像子区灰度梯度平方和选用最佳模拟散斑图,通过改变聚焦离子束系统的放大倍数可以控制散斑的大小和面积,通过改变束流强度和刻蚀时间可改变散斑形貌,所制作的散斑适用于不同材料的微纳观变形行为的研究。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 尺度 制作方法 | ||
【主权项】:
一种微纳米尺度散斑的制作方法,其特征在于该方法包括如下步骤:1)利用计算机软件生成多幅颗粒大小和数目各不相同的模拟散斑图,根据图像子区灰度梯度平方和选择出最佳模拟图,将该散斑图转化为二值图;2)进行标定实验:将标定试件平放在聚焦离子束系统的载物台上,选定某一放大倍数,预设置束流强度和刻蚀时间,根据得到的二值图对标定试件表面进行刻蚀,观察该散斑图案是否清晰,如果不清晰则调整束流强度和刻蚀时间,直至观察到清晰的图案结构为止,记录选定放大倍数下的束流强度、刻蚀时间和视场面积;多次调整放大倍数,得到放大倍数与束流强度、放大倍数与刻蚀时间以及放大倍数与视场面积的标定关系曲线;3)根据被测试件的实际测量面积以及放大倍数与视场面积的标定关系曲线,计算被测试件刻蚀散斑所需的放大倍数,然后根据所需的放大倍数得到束流强度和刻蚀时间;4)将被测试件平放在聚焦离子束系统的载物台上,根据步骤3)计算得到的被测试件刻蚀散斑所需的放大倍数、束流强度和刻蚀时间,调整好聚焦离子束系统,根据步骤1)中得到的二值图进行刻蚀,最终在被测试件表面得到所需尺寸的散斑结构。
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