[发明专利]感光性树脂组合物以及被蚀刻基体的制造方法无效
| 申请号： | 200910215323.1 | 申请日： | 2009-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN101776845A | 公开（公告）日： | 2010-07-14 |
| 发明（设计）人： | 植松照博;桃泽绫;高木利哉 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027;G03F7/031;G03F7/00 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫 |
| 地址： | 日本神奈川县川*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物兼具充分的耐药品性和良好的剥离性、并且用于得到与基材上的金属膜之间显示良好粘合性的树脂图案，以及提供一种使用了这种树脂图案的被蚀刻基体的制造方法。本发明的感光性树脂组合物包含：通过使来自含酸基的丙烯酸类树脂的一部分酸基与来自含脂环族环氧基的不饱和化合物的环氧基反应而生成的碱性可溶性树脂(A)；三官能以上的多官能单体(B)；含氮单官能单体(C)；光聚合引发剂(D)。 | ||
| 搜索关键词： | 感光性 树脂 组合 以及 蚀刻 基体 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种感光性树脂组合物，包含：通过使来自含酸基的丙烯酸类树脂的一部分酸基与来自含脂环族环氧基的不饱和化合物的环氧基反应而生成的碱性可溶性树脂(A)；三官能以上的多官能单体(B)；含氮单官能单体(C)；光聚合引发剂(D)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京应化工业株式会社，未经东京应化工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910215323.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
