[发明专利]一种磁控溅射装置的可旋转样品位无效
| 申请号： | 200910194429.8 | 申请日： | 2009-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN101638774A | 公开（公告）日： | 2010-02-03 |
| 发明（设计）人： | 刘延辉;周细应 | 申请（专利权）人： | 上海工程技术大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 | 代理人： | 何葆芳 |
| 地址： | 200336*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及磁控溅射镀膜装置技术领域。一种磁控溅射装置的可旋转样品位，包括磁控溅射装置及配置在装置中的磁控溅射靶(10)，呈圆环形的绝缘底板(7)套置在磁控溅射靶(10)底部，在绝缘底板(7)上安装若干垂直滚动的滚动轴承(6)，滚动轴承(6)支撑一个水平配置旋转的大齿轮(3)，大齿轮(3)的上方配置筒式的支撑管(4)，支撑管(4)的顶部为样品位(5)，大齿轮(3)的外侧与水平配置的小齿轮(1)啮合，小齿轮(1)由电机(2)驱动。本发明实现了样品在磁控溅射的过程中均匀平稳旋转的动作，提高薄膜成分和厚度的均匀性，且本装置结构简单，操作使用保养维护方便，不需要增加复杂而精密的硬件和相应的控制软件，降低了磁控溅射设备的设计难度和制造成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 装置 旋转 样品 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射装置的可旋转样品位，包括磁控溅射装置及配置在装置中的磁控溅射靶(10)，其特征在于：呈圆环形的绝缘底板(7)套置在磁控溅射靶(10)底部，在绝缘底板(7)上安装若干垂直滚动的滚动轴承(6)，滚动轴承(6)支撑一个水平配置旋转的大齿轮(3)，大齿轮(3)的上方配置筒式的支撑管(4)，支撑管(4)的顶部为样品位(5)，大齿轮(3)的外侧与水平配置的小齿轮(1)啮合，小齿轮(1)由电机(2)驱动。
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