[实用新型]等离子体刻蚀机有效
申请号: | 200820094136.3 | 申请日: | 2008-05-21 |
公开(公告)号: | CN201194232Y | 公开(公告)日: | 2009-02-11 |
发明(设计)人: | 伍波;张勇;李果山 | 申请(专利权)人: | 深圳市捷佳伟创微电子设备有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/00;H01L21/3065;H01L21/311;C23F4/00;H01J37/32 |
代理公司: | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 | 代理人: | 胡朝阳;孙洁敏 |
地址: | 518000广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种等离子体刻蚀机,包括安装在主机柜内的立式结构反应室,位于主机柜上的电气自动控制单元,与反应室连接的送气单元及抽气单元,与抽气单元连接的真空泵,高频电源及匹配器;固定环、下法兰采用螺钉固定,使电感线圈和石英反应管间有一致的距离,保证了石英反应管内有一个均匀的电磁场和等离子体场,以及其内设置匀流板保证气体均匀的送进和抽走,刻蚀的稳定、均匀;盖板两侧设置定位杆,避免了密封圈污染;薄膜规以超纯陶瓷传感器室为基础构成,并用带滤芯式夹紧连接器支架固定,固定后保持垂直方向,防止了粉尘粘附到传感器上使用寿命长;真空泵采用水冷双级旋片泵,滑片采用非金属材料,泵口设过滤器,减少磨损,延长泵的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 刻蚀 | ||
【主权项】:
1.一种等离子体刻蚀机,它包括安装在主机柜内的反应室,位于主机柜上的电气自动控制单元,与反应室连接的送气单元及抽气单元,与抽气单元连接的真空泵,为反应室电离反应气体提供电能的高频电源及匹配器,其特征在于:反应室为立式结构,反应室上方连接送气单元、下方连接抽气单元,反应室的送气端设有送气匀流板、抽气端设有抽气匀流板;反应室上方为盖板,盖板设有定位装置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的