[实用新型]等离子体刻蚀机有效

专利信息
申请号: 200820094136.3 申请日: 2008-05-21
公开(公告)号: CN201194232Y 公开(公告)日: 2009-02-11
发明(设计)人: 伍波;张勇;李果山 申请(专利权)人: 深圳市捷佳伟创微电子设备有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L21/00;H01L21/3065;H01L21/311;C23F4/00;H01J37/32
代理公司: 深圳市康弘知识产权代理有限公司 代理人: 胡朝阳;孙洁敏
地址: 518000广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种等离子体刻蚀机,包括安装在主机柜内的立式结构反应室,位于主机柜上的电气自动控制单元,与反应室连接的送气单元及抽气单元,与抽气单元连接的真空泵,高频电源及匹配器;固定环、下法兰采用螺钉固定,使电感线圈和石英反应管间有一致的距离,保证了石英反应管内有一个均匀的电磁场和等离子体场,以及其内设置匀流板保证气体均匀的送进和抽走,刻蚀的稳定、均匀;盖板两侧设置定位杆,避免了密封圈污染;薄膜规以超纯陶瓷传感器室为基础构成,并用带滤芯式夹紧连接器支架固定,固定后保持垂直方向,防止了粉尘粘附到传感器上使用寿命长;真空泵采用水冷双级旋片泵,滑片采用非金属材料,泵口设过滤器,减少磨损,延长泵的使用寿命。
搜索关键词: 等离子体 刻蚀
【主权项】:
1.一种等离子体刻蚀机,它包括安装在主机柜内的反应室,位于主机柜上的电气自动控制单元,与反应室连接的送气单元及抽气单元,与抽气单元连接的真空泵,为反应室电离反应气体提供电能的高频电源及匹配器,其特征在于:反应室为立式结构,反应室上方连接送气单元、下方连接抽气单元,反应室的送气端设有送气匀流板、抽气端设有抽气匀流板;反应室上方为盖板,盖板设有定位装置。
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