[发明专利]掩膜坯料的制造方法及光掩膜的制造方法有效
| 申请号： | 200810090895.7 | 申请日： | 2008-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN101286007A | 公开（公告）日： | 2008-10-15 |
| 发明（设计）人： | 浅川敬司;宫田凉司 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社;HOYA电子马来西亚有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/38;G03F1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种带有抗蚀膜的掩膜坯料的制造方法，其包括抗蚀剂涂敷，在该抗蚀剂涂敷工序中，从具有向一方向延伸的抗蚀液供给口的涂敷喷嘴喷出抗蚀液，同时沿与所述一方向交差的方向使所述涂敷喷嘴及基板的被涂敷面相对移动，在所述被涂敷面上涂敷所述抗蚀液。在本制造方法中，尤其是，涂敷后的抗蚀剂的干燥从相对于抗蚀剂的涂敷膜表面平行的方向供给清洁气体而进行。 | ||
| 搜索关键词： | 坯料 制造 方法 光掩膜 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜坯料的制造方法，其是包括抗蚀剂涂敷工序的带有抗蚀膜掩模坯料的制造方法，在所述抗蚀剂涂敷工序中，从具有向一方向延伸的抗蚀液供给口的涂敷喷嘴喷出抗蚀液，同时沿与所述一方向交差的方向使所述涂敷喷嘴及基板的被涂敷面相对移动，在所述被涂敷面上涂敷所述抗蚀液，所述掩膜坯料的制造方法的特征在于，涂敷后的抗蚀剂的干燥包括从相对于抗蚀剂的涂敷膜表面平行的方向供给清洁气体，从而使涂敷后的抗蚀剂干燥的工序。
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