[发明专利]一种电子级二氧化硅的制备方法无效
| 申请号： | 200810079802.0 | 申请日： | 2008-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN101475181A | 公开（公告）日： | 2009-07-08 |
| 发明（设计）人： | 张原僖;周日升;庚廷瑞;赵建卿;梁建强;王洁 | 申请（专利权）人： | 山西天一纳米材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/18 | 分类号： | C01B33/18 |
| 代理公司： | 山西太原科卫专利事务所 | 代理人： | 温彪飞;赵晓云 |
| 地址： | 030600山西*** | 国省代码： | 山西;14 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种电子级二氧化硅的制备方法，用高纯度水玻璃与硫酸反应生成硫酸钠与硅酸，将硫酸钠水洗后得硅酸胶体，经离心脱水与微波干燥脱水后得纯净二氧化硅粉体。本发明的一种电子级二氧化硅的制备方法工艺简单，所得产品纯度高，粒径小，适合于作为电子元器件的原材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电子 二氧化硅 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种电子级二氧化硅的制备方法，其特征在于包括如下工艺步骤：①将含铁量小于或等于5PPM、重量百分浓度为8-15％的水玻璃液体置于反应釜内，常温、常压及搅拌条件下，以1-6立方/小时的流速向反应釜内加入浓度为25-35％的稀硫酸至釜内液体pH值＝1，得反应物为硫酸钠Na2SO4及硅酸H2SiO4胶体与水的混合物；②将釜内反应物移入真空抽滤筒用纯水进行洗涤除去硫酸钠，得到硅酸胶体与水的混合物；③将洗涤后的硅酸胶体与水的混合物进行离心脱水，使其中硅酸胶体含量达到35％以上；④将离心脱水后的硅酸胶体用微波干燥使硅酸脱去分子水及外部游离水份，至含游离水小于5％，得高纯二氧化硅粉体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山西天一纳米材料科技有限公司，未经山西天一纳米材料科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810079802.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
