[发明专利]用于步进光刻机对准系统的测校装置及其测校方法

摘要

本发明公开了一种用于步进光刻机机器视觉对准系统的测校装置及其测校方法，涉及步进光刻机对准系统领域。本发明提供的一种用于步进光刻机机器视觉对准系统的测校装置包括：掩模台测校板、硅片台测校板、物距调整机构、反射镜调整机构、信号处理与控制单元。本发明基于该装置提供的一种测校方法，包括调整对准系统成像镜头的物距，调整测量平面和成像平面的平行度，标定图像坐标系和测量坐标系之间的关系，测定对准系统精度等步骤。与现有技术相比，本发明提供的一种用于步进光刻机机器视觉对准系统的测校装置及其测校方法结构简单，功能完整，易于集成于步进光刻机中并且有效地提高对准系统的精度和可靠性。

主权项

1.一种用于步进光刻机对准系统的测校装置，包括：测校板、物距调整机构、反射镜调整机构、信号处理与控制单元；其中物距调整机构包括伺服电机和第一调整机构；反射镜调整机构包括角度可调反射镜和第二调整机构；其特征在于：所述第一调整机构由信号处理与控制单元控制伺服电机驱动，以调整物距；所述第二调整机构由信号处理与控制单元控制用于调整可调反射镜的角度以保证目标平面和成像平面的平行度。