[发明专利]一种用于光刻设备对准系统的对准标记结构

摘要

一种用于光刻设备对准系统的对准标记结构，所述对准标记是二维对准标记，至少包含六组光栅：用于x轴方向对准的x轴第一光栅、第二光栅和第三光栅，以及用于y轴方向对准的y轴第一光栅、第二光栅和第三光栅，所述x轴和y轴各自的第一光栅、第三光栅和第二光栅均沿对准方向依次排开，用于x轴方向对准和用于y轴方向对准的光栅相互垂直，根据所述x轴方向和y轴方向的第一光栅对准信号和第二光栅对准信号的位相信息得到对准标记的粗略中心位置，根据第三光信号的位相信息，并结合对准标记的粗略中心位置得到对准标记的精确中心位置，本发明降低了技术难度，避免了因耦合产生的误差和光能量的损失，提高了精度。

主权项

1.一种用于光刻设备对准系统的对准标记结构，其特征在于包括：所述对准标记是二维对准标记，至少包含六组光栅：x轴第一光栅、x轴第二光栅和x轴第三光栅，用于x轴方向对准，所述x轴第一光栅、x轴第三光栅和x轴第二光栅沿x轴方向依次排开，所述x轴第一光栅和所述x轴第二光栅为大周期光栅，所述x轴第三光栅为小周期光栅，所述x轴第三光栅离所述x轴第一光栅和所述x轴第二光栅其中之一的距离比到另一个的距离远。y轴第一光栅、y轴第二光栅和y轴第三光栅，用于y轴方向对准，所述y轴第一光栅、y轴第三光栅和y轴第二光栅沿y轴方向依次排开，所述y轴第一光栅和所述y轴第二光栅为大周期光栅，所述y轴第三光栅为小周期光栅，所述y轴第三光栅离所述y轴第一光栅和所述y轴第二光栅其中之一的距离比到另一个的距离远。所述x轴的光栅和所述y轴的光栅相互垂直，所述x轴第三光栅和与其相距远的x轴大周期光栅之间的中点，与所述y轴第三光栅和与其相距远的y轴大周期光栅之间的中点重合。