[发明专利]用于光刻设备的对准系统及其对准方法和光刻设备

摘要

一种用于光刻设备的对准系统，将包括全局型和局部型位置检测器在内的多个位置检测器集成在一个对准系统中；整个系统结构紧凑，具有较强工艺适应性、能够产生高灵敏度和高信噪比的对准信号。一种对准方法，在不同的工艺情况下可以选择不同的位置检测器进行对准检测；在两种位置检测器都可以满足对准要求时，同时对两种位置检测器下得到的对准位置信息进行加权处理获得最终的标记中心位置。对准系统在采用不同位置检测器对准探测时使用同一个对准标记，可以节省晶片的占用面积，并可以使用户在对准过程中自由改变位置检测器。

主权项

1、一种用于光刻设备的对准系统，其特征在于，该对准系统包含多个位置检测器，至少包括：光源模块，提供用于对准系统的照明光束；照明模块，传输光源模块的照明光束，照明晶片上的光栅型对准标记；检测模块，至少包括第一位置检测器和第二位置检测器，第一位置检测器探测对准标记，得到第一对准信号；第二位置检测器探测相同的对准标记，得到第二对准信号；信号处理和定位模块，设置成与检测模块相连接，处理第一对准信号和第二对准信号，由第一对准信号得到对准标记的第一位置，由第二对准信号得到对准标记的第二位置；取第一位置和第二位置的其中之一，或者取通过组合第一位置和第二位置以使用加权因子计算的第三位置，作为对准标记的中心位置。