[实用新型]用于多弧离子镀设备的靶座无效
| 申请号： | 200720011930.2 | 申请日： | 2007-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN201033800Y | 公开（公告）日： | 2008-03-12 |
| 发明（设计）人： | 郭强;张利鹏;王闯;郭文英;张钧 | 申请（专利权）人： | 沈阳大学 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 沈阳东大专利代理有限公司 | 代理人： | 戚羽 |
| 地址： | 110044辽宁*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种用于多弧离子镀设备的靶座，该靶座为圆柱体，靶座的上端有一凹槽，靶座的中部设有若干个螺纹孔，靶座的下部有螺纹。该靶座采用易加工且导热性能好的铜或其他合金制成，镀膜时将靶材的下端落座在靶座的凹槽里，用螺钉通过靶座中部的螺纹孔将靶材固定，靶座通过其下部的螺纹与法兰连接，法兰在固定在镀膜机上。合金靶材通过该靶座可方便地固定在镀膜机上并改善了合金靶的导热性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 离子镀 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于多弧离子镀设备的靶座，其特征是：该靶座为圆柱体，靶座的上端有一凹槽，靶座的中部设有若干个螺纹孔，靶座的下部有螺纹。
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