[发明专利]基于自适应纠正处理提高对准信号处理精度的方法有效
申请号: | 200710172938.1 | 申请日: | 2007-12-25 |
公开(公告)号: | CN101221365A | 公开(公告)日: | 2008-07-16 |
发明(设计)人: | 李焕炀;宋海军;陈勇辉;严天宏;周畅 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00;G05D3/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于自适应纠正处理提高对准信号处理精度的方法,该方法使用了椭圆旁瓣滤波器,实现了更好的滤波效果;运用对准位置是否在捕获范围以内的检验方法,自适应更新扫描中心和扫描范围,提高了对准扫描对空间像的大小的适应能力,从而提高了对准扫描的可重复性和扫描效率;提供了自适应更新阈值常数值和进行阈值滤波处理的方法,提高了对准扫描的适应性和对准扫描的精度。 | ||
搜索关键词: | 基于 自适应 纠正 处理 提高 对准 信号 精度 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于自适应纠正处理提高对准信号处理精度的方法,用于光刻设备的对准系统中,所述对准系统包括:探测构图部件、目标构图部件、置于目标构图部件上的对准标记、用于照射目标构图部件上标记的照明装置、探测构图部件上的对准标记及其下面的探测装置、目标构图部件运动台及其位置测量装置、探测构图部件运动台及其位置测量装置、置于目标构图部件和探测构图部件之间的投影系统和对准信号处理装置,其特征在于,所述方法包括以下步骤:(1)设置参数,进行初始化,设置照明装置直接照射在目标构图部件上对准标记的辐射束窗口,形成目标构图部件上对准标记的透射成像;(2)用探测构图部件上的对准标记,扫描目标构图部件上对准标记经过投影系统后的空间成像,由探测构图部件上的对准标记下方的传感器探测该空间成像透过探测构图部件上对准标记的光信息;在采集所述光信息时同步采集目标构图部件运动台的位置数据,采集探测构图部件运动台的位置数据;对采集得到的所述目标构图部件运动台的位置数据和所述探测构图部件运动台的位置数据进行空间变换,对采集到的所述光信息数据进行归一化处理,并进行采样计数;(3)进行旁瓣滤波处理;(4)进行阈值滤波处理;(5)归约化简处理;(6)判断是否达到所需的扫描采样点总数,未达到则返回步骤(2),达到则进入步骤(7);(7)检验对准位置是否在捕获范围内,若在所述捕获范围内则进入步骤(9),否则进入步骤(8);(8)自适应调整扫描中心和扫描范围,返回步骤(1);(9)判断是否通过阈值检验,若未通过所述阈值检验则进入步骤(10),否则进入步骤(13);(10)更新阈值常数值,进行阈值滤波处理;(11)归约化简处理;(12)判断是否完成对所有采样点的处理,未完成则返回步骤(11),完成则进入步骤(13);(13)计算逼近模型参数、对准位置和重相关值;(14)判断重相关值是否满足要求,不满足要求则返回步骤(1),满足要求则进入步骤(15);(15)返回对准矢量,结束对准扫描。
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