[发明专利]化学放大正性光刻胶组合物无效
| 申请号： | 200710079265.5 | 申请日： | 2007-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN101021683A | 公开（公告）日： | 2007-08-22 |
| 发明（设计）人： | 安藤信雄;藤裕介;武元一树 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 顾晋伟;刘继富 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了化学放大光刻胶组合物，其包含：树脂(A)，其不含有氟原子，而含有具有酸不稳定基团的结构单元(a1)；树脂(B)，其含有具有含氟基团的结构单元(b2)和选自具有酸不稳定基团的结构单元(b1)、具有羟基的结构单元(b3)和具有内酯结构的结构单元(b4)的至少一种结构单元；和产酸剂。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 放大 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1.一种化学放大正性光刻胶组合物，包括：树脂(A)，其不含有氟原子，而含有具有酸不稳定基团的结构单元(a1)，树脂(B)，其含有具有含氟基团的结构单元(b2)和选自具有酸不稳定基团的结构单元(b1)、具有羟基的结构单元(b3)和具有内酯结构的结构单元(b4)的至少一种结构单元，和产酸剂。
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