[发明专利]曝光装置、曝光方法及元件制造方法有效

专利信息
申请号: 200680015882.2 申请日: 2006-03-31
公开(公告)号: CN101171668A 公开(公告)日: 2008-04-30
发明(设计)人: 长坂博之 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027;G03F7/20
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 任默闻
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的曝光装置具备:供应用以充满曝光用光的光路空间(K1)的液体的液体供应装置,与配置于曝光位置的基板表面相对向、且围住曝光用光的光路空间(K1)的第1岛面(75),以及配置在第1岛面(75)外侧的第2岛面(76)。第1岛面(75)能将液体保持在与基板表面之间。第2岛面(76)设置成不会与和基板表面之间存在的液体的膜接触。据此,在一边移动基板一边进行曝光时,也能将曝光用光的光路空间以液体充满成期望状态。
搜索关键词: 曝光 装置 方法 元件 制造
【主权项】:
1.一种曝光装置,其对基板上照射曝光用光来使所述基板曝光,其特征在于,所述曝光装置具备:液体供应装置,其为了将所述曝光用光的光路空间以液体加以充满而供应液体;第1面,其以和配置在所述曝光用光可照射位置的物体表面相对向、且围着所述曝光用光的光路空间的方式设置,能将所述液体供应装置供应的液体保持在与所述物体之间;以及第2面,其以和所述物体表面相对向、且相对所述曝光用光的光路空间配置在所述第1面的外侧,所述第2面被设置成所述物体表面与所述第2面之间存在的液体膜不会与所述第2面接触。
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