[发明专利]光刻用防护胶膜组件及防护胶膜框架有效
| 申请号： | 200510135708.9 | 申请日： | 2005-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN1797215A | 公开（公告）日： | 2006-07-05 |
| 发明（设计）人： | 永田爱彦 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种防护胶膜组件，其能够有效防止在持续短波长化的光刻工艺中，掩模基板上雾霭(haze)的产生。本发明的光刻用防护胶膜组件1由防护胶膜框架2，及在该框架的一端面贴附的防护胶膜膜片3所构成，构成光刻用防护胶膜组件的该防护胶膜框架的特征为：对该框架铝合金表面进行阳极氧化处理而形成，且其硫酸根离子、硝酸根离子、氯离子以及有机酸(乙二酸、蚁酸及醋酸的总量)各自的含有量为：将该框架浸泡于25℃的100毫升纯水中168小时后，该框架每100平方厘米表面积的溶出浓度，均在1.1ppm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 防护 胶膜 组件 框架 | ||
【主权项】：
1.一种防护胶膜框架，为构成光刻用防护胶膜组件的防护胶膜框架，其由对铝合金的表面施以阳极氧化处理而形成，且其硫酸根离子、硝酸根离子、氯离子以及有机酸各自的含有量为：将该框架浸泡于25℃的100毫升纯水中168小时后，该框架每100平方厘米表面积的溶出浓度，均在1.1ppm以下，其中有机酸含有量为乙二酸、蚁酸及醋酸的总量。
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