[发明专利]极紫外光刻精密磁悬浮工件台无效
| 申请号： | 200410009664.0 | 申请日： | 2004-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN1760760A | 公开（公告）日： | 2006-04-19 |
| 发明（设计）人： | 朱涛;李艳秋 | 申请（专利权）人： | 中国科学院电工研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 关玲;刘秀娟 |
| 地址： | 100080北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种极紫外光刻精密磁悬浮工件台。它由微定位平台组件[117]、粗定位平台组件[125]、基座组件[132]组成；基座组件[132]位于最底部，粗定位平台组件[125]位于基座组件[132]正上方，可以相对基座沿Y向移动；基座[101]通过磁悬浮导轨[102]支撑粗定位平台组件[125]。微定位平台组件[117]位于粗定位平台组件[125]正上方，由粗定位平台组件[125]通过磁悬浮导轨[112]支撑，相对粗定位平台组件[125]沿X方向移动；粗定位平台组件[125]的线缆台[107]、平衡块[108]、电磁铁[118]，可有效降低工件台的定位误差，提高其刚度。本发明可实现XY长行程线性运动及X、Y、Z、θ度好、能耗低、精度高，适用于极紫外光刻机和其他真空作业环境的精密加工和检测作业。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外 光刻 精密 磁悬浮 工件 | ||
【主权项】：
1、一种极紫外光刻精密磁悬浮工件台，其特征在于：它由微定位平台组件[117]、粗定位平台组件[125]、基座组件[132]组成；基座组件[132]位于最底部，粗定位平台组件[125]位于基座组件[132]正上方，可以相对基座沿Y向移动，基座[101]通过磁悬浮导轨[102]支撑粗定位平台组件[125]；微定位平台组件[117]位于粗定位平台组件[125]正上方，由粗定位平台组件[125]通过磁悬浮导轨[112]支撑，相对粗定位平台组件[125]沿X方向移动。
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