[发明专利]高熔点金属制品的再生无效

专利信息
申请号: 02804821.0 申请日: 2002-02-14
公开(公告)号: CN1491294A 公开(公告)日: 2004-04-21
发明(设计)人: P·艾蒙尼;P·库马尔;P·R·杰普森;H·乌伦胡特;H·V·戈尔德贝格 申请(专利权)人: H·C·施塔克公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;B23F7/00;B22F3/24
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 周承泽
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 高熔点金属制品(12),如铜等非高熔点导电金属背衬(14)上的钽,能够在选定区域的金属被消耗后,通过对该区域(18)进行粉末填充(28)和高扫描速度下高能加热(30)烧结所加的粉末而再生,由于无需完全熔化填充的粉末,所以能够建立与再生制品的其余部位一致的显微结构,并且无需将铜背衬(14)与钽溅射板(12)分离。该再生方法可以应用于遭受不均匀侵蚀、蚀刻、切割或其他金属消耗的非固定安装的高熔点金属制品。这些高熔点金属制品的形状可以是板状、棒状、圆柱体状、块状或其他除溅射靶以外的形状。该过程可以应用于如X射线靶(碳背衬上的钼板)。
搜索关键词: 熔点 金属制品 再生
【主权项】:
1.再生的钽溅射靶,包括:使用过的钽溅射靶,包括一个钽溅射板和一个背衬板,其中所述钽溅射板的靶表面有一个或多个消耗的表面部位;在每个消耗表面部位上的结合了的金属颗粒,这些结合了的金属颗粒部分地或全部地填充每个消耗表面部位,其特征在于所述使用过的钽溅射靶无需从其上面分离去所述背衬板,即可实行再生。
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