[发明专利]1,3,4-噻二唑碳青霉烯化合物及其制备方法和用途无效

专利信息
申请号: 00132656.2 申请日: 2000-11-21
公开(公告)号: CN1112364C 公开(公告)日: 2003-06-25
发明(设计)人: 刘浚;胡来兴;金洁;武燕彬 申请(专利权)人: 中国医学科学院医药生物技术研究所
主分类号: C07D477/06 分类号: C07D477/06;C07D477/20
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 黄健
地址: 10005*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及具有如下结构式(I)的1,3,4-噻二唑碳青霉烯化合物,∴其中,R1选自吡啶基、一个或多个取代的吡啶基、苯基、一个或多个取代的苯基、氢、低级烷基、氨基、低级烷胺基、酰胺基、低级烷基羰基或芳基羰基、巯基、低级烷硫基或芳基硫基、羟基、低级烷氧基或芳基氧基;R2为氢、碱金属或在生物体内水解的酯残基。另外,本发明还涉及该化合物的制备方法和在制备抗生素药物中的应用。
搜索关键词: 噻二唑碳 青霉 化合物 及其 制备 方法 用途
【主权项】:
1、1,3,4-噻二唑碳青霉烯化合物,其在1-β甲基碳青霉烯双环母核的C-2位连接有5-位取代的2-巯基-1,3,4-噻二唑侧链,该化合物具有如下结构式(I):其中,R1选自吡啶基、一个或多个取代的吡啶基、苯基、一个或多个取代的苯基、氢、低级烷基、氨基、低级烷胺基、酰胺基、低级烷基羰基或芳基羰基、巯基、低级烷硫基或芳基硫基、羟基、低级烷氧基或芳基氧基;其中,R1为一个或多个取代的吡啶基时,取代基可以是卤素、硝基、氰基、低级烷基、低级环烷基、巯基、低级烷硫基、羟基、低级烷氧基、氨基、低级烷胺基、酰胺基、低级烷基羰基、芳基羰基或芳基;R1为一个或多个取代的苯基时,取代基可以是卤素、硝基、氰基、低级烷基、低级环烷基、巯基、低级烷硫基、羟基、低级烷氧基、氨基、低级烷胺基、酰胺基、低级烷基羰基、芳基羰基或芳基;R2为氢、碱金属或在生物体内水解的酯残基。
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