[发明专利]一种青霉素的提纯方法无效
申请号: | 02100144.8 | 申请日: | 2002-01-14 |
公开(公告)号: | CN1432572A | 公开(公告)日: | 2003-07-30 |
发明(设计)人: | 徐兵 | 申请(专利权)人: | 徐兵 |
主分类号: | C07D499/18 | 分类号: | C07D499/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 052165 河北省石*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明涉及一种青霉素的提纯方法,该方法使用青霉素发酵液滤液,加入无机酸或有机酸调pH3.5以下,得到“青霉素酸化一次沉淀”,然后再用目前广泛使用的提纯方法得到所需的青霉素酸或青霉素盐的固体物。本发明的方法不用或少用疏水性有机溶媒,即可达到将发酵液滤液中的青霉素提纯的目的。以这种方法得到的低成本的青霉素酸或青霉盐的固体物还可作为制备6-氨基青霉烷酸的原料。 | ||
搜索关键词: | 一种 青霉素 提纯 方法 | ||
【主权项】:
1、一种青霉素的提纯方法,其特征在于包括以下工艺过程a.使用青霉素发酵液经过滤后的“发酵液滤液”加入有机酸或无机酸调pH3.5以下,产生青霉素酸沉淀。固液分离,加水或疏水性有机溶媒清洗,收集沉淀物,得到“青霉素一次酸化沉淀”。b.“青霉素一次酸化沉淀”中加入碱性物质调pH4.5-8.0,将“青霉素一次酸化沉淀”溶解,得到“青霉素一次碱化溶解液”。c.“青霉素一次碱化溶解液”加入有机酸或无机酸调pH3.5以下,产生青霉素酸沉淀。固液分离,加水或疏水性有机溶媒清洗,优选的疏水性有机溶媒为丁醇。收集沉淀物,得到“青霉素二次酸化沉淀”。d.“青霉素二次酸化沉淀”加入碱性物质,调pH4.5-8.0,将“青霉素二次酸化沉淀”溶解,得到“青霉素二次碱化溶解液”e.“青霉素二次碱化溶解液”加活性炭脱色,过滤,得到的滤液进入喷雾干燥设备干燥,得到较纯的青霉素盐固体物。该青霉素固体物还可作为生产6-氨基青霉烷酸(6-APA)的原料。
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- 提纯氨苄青霉素前药酯溶液的方法-98813613.9
- H·J·菲德塞尔;E·康贝里 - 阿斯特拉曾尼卡有限公司
- 1998-12-16 - 2001-02-21 -
- 提纯氨苄青霉素前药如氨苄青霉素碳酯或其酸加成盐溶液的方法,该方法包括将其粗溶液在控制有机溶剂蒸发速率的条件下进行蒸发,以便所要提纯的前药酯或其盐的结晶可以连续操作进行。所述结晶优选在水相萃取和/或有机相萃取之后进行,两者也优选连续进行。
- 一种从发酵滤液中提取青霉素的工艺-00100114.0
- 苗勇;亓平言 - 亓平言
- 2000-01-11 - 2000-08-16 -
- 本发明涉及一种从发酵滤液中提取青霉素的工艺,该工艺为以青霉素发酵滤液为原料,用硫酸溶液调pH值,加入醋酸丁酯或醇类溶剂进行萃取,然后将萃取有机相进行洗涤,洗涤后的有机相与碱水用离心机进行三级反萃取,反萃液经丁醇共沸结晶、干燥后即为本发明的产品。本发明改进了传统的工艺和设备,使之简化操作,提高收率,改善劳动环境。
- 用醋酸丁酯提取青霉素萃取操作新工艺-98100709.0
- 亓平言;戴猷元;苗勇 - 清华大学
- 1998-03-06 - 2000-08-09 -
- 本发明涉及一种青霉素提取新工艺。该新工艺使用一种新的萃取工艺条件代替传统的萃取工艺条件。新的萃取工艺条件可以大大减少青霉素的降解和萃取操作的乳化程度,降低能耗,提高收率,降低产品成本。
- 用醇类溶剂提取和纯化青霉素-98100710.4
- 亓平言;戴猷元;苗勇 - 清华大学
- 1998-03-06 - 2000-08-09 -
- 本发明涉及一种青霉素提取新方法。该新方法是用一种新的萃取体系代替传统工艺中的醋酸丁酯。新的萃取体系是由醇类溶剂作萃取剂,必要时加进一定比例的稀释剂和添加剂。新的制备方法可以提高萃取pH和萃取温度,残液可以不回收溶媒,从而减少青霉素的降解,降低能耗,提高收率,降低产品成本。
- 专利分类
C07 有机化学
C07D 杂环化合物
C07D499-00 杂环化合物,含有4-硫杂-1-氮杂双环[3.2.0]庚烷环系,即含有下式环系的化合物 ,例如,青霉素,青霉烯;这类环系进一步稠合,例如与含氧、含氮或含硫杂环2,3-稠合
C07D499-04 .制备
C07D499-21 .有氮原子直接连在位置6和3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-86 .只有1个除氮原子外的原子直接连在位置6,3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-87 .在位置3未取代或在位置3连有除仅两个甲基外的取代基,并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2的化合物
C07D499-88 .在位置2和3之间有双键并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基和氰基,直接连在位置2的化合物
C07D 杂环化合物
C07D499-00 杂环化合物,含有4-硫杂-1-氮杂双环[3.2.0]庚烷环系,即含有下式环系的化合物 ,例如,青霉素,青霉烯;这类环系进一步稠合,例如与含氧、含氮或含硫杂环2,3-稠合
C07D499-04 .制备
C07D499-21 .有氮原子直接连在位置6和3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-86 .只有1个除氮原子外的原子直接连在位置6,3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-87 .在位置3未取代或在位置3连有除仅两个甲基外的取代基,并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2的化合物
C07D499-88 .在位置2和3之间有双键并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基和氰基,直接连在位置2的化合物