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[发明专利]用于处理具有相干性的辐射束的装置和方法-CN201780048092.2有效
发明人： S·A·戈登;N·潘迪;D·阿克布鲁特;T·W·图克;J·M·M·德维特 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-07-17 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了用于处理具有相干性的辐射束的装置和方法。在一种布置中，光学系统接收具有相干性的辐射束。辐射束包括分布在一个或多个辐射束空间模式之上的分量。波导支持多个波导空间模式。光学系统将属于共同辐射束空间模式并且具有不同频率的辐射束的多个分量引导到波导上，使得多个分量中的每个分量耦合到波导空间模式的不同集合，每个集合包括一个或多个波导空间模式。
用于处理具有相干性辐射装置方法

[发明专利]检查衬底的方法、量测设备和光刻系统-CN202010697550.9在审
发明人： T·W·图克;A·辛格;G·范德祖 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-09-28 - 公布日： 2020-10-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了检查衬底的方法、量测设备和光刻系统。在一种布置中，检查衬底。由辐射源发射的源辐射光束被分成测量光束和参考光束。用测量光束照射第一目标，第一目标在衬底上。用参考光束照射第二目标，第二目标与衬底分离。从第一目标收集第一散射辐射并将其递送到检测器。从第二目标收集第二散射辐射并将其递送到检测器。在检测器处第一散射辐射与第二散射辐射干涉。第一目标包括第一图案。第二目标包括第二图案或第二图案的光瞳平面图像。第一图案在几何上与第二图案相同，第一图案和第二图案是周期性的并且第一图案的节距与第二图案的节距相同，或两者兼而有之。
检查衬底方法设备光刻系统

[发明专利]光学系统、量测装置及相关联的方法-CN201880056663.1在审
发明人： S·T·范德波斯特;S·M·B·鲍默;P·D·范福尔斯特;T·W·图克;F·兹杰普;H-K·尼恩海斯;J·M·A·范登埃厄伦比埃姆德 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-08-20 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： G21K1/06 文献下载
摘要：描述了一种光学系统(OS)，该光学系统(OS)用于将辐射束(B)聚焦在量测装置中的关注区域上。辐射束(B)包括在软X射线或极紫外光谱范围中的辐射。光学系统(OS)包括用于将辐射束聚焦在中间聚焦区域的第一级(S1)。光学系统(OS)包括用于将来自中间聚焦区域的辐射束聚焦到关注区域上的第二级(S2)。第一级和第二级均包括Kirkpatrick‑Baez反射器组合。至少一个反射器包括像差校正反射器。
光学系统装置相关方法

[发明专利]检查衬底的方法、量测设备和光刻系统-CN201780063311.4在审
发明人： T·W·图克;A·辛格;G·范德祖 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-09-28 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了量测设备和方法。在一种布置中，检查衬底。由辐射源(50)发射的源辐射光束(131)被分成测量光束(132)和参考光束(133)。用测量光束照射第一目标，第一目标在衬底(W)上。用参考光束照射第二目标(90)，第二目标与衬底分离。从第一目标收集第一散射辐射(134)并将其递送到检测器(80)。从第二目标收集第二散射辐射(135)并将其递送到检测器。在检测器处第一散射辐射与第二散射辐射干涉。第一目标包括第一图案。第二目标包括第二图案或第二图案的光瞳平面图像。第一图案在几何上与第二图案相同，第一图案和第二图案是周期性的并且第一图案的节距与第二图案的节距相同，或两者兼而有之。
图案散射辐射检测器衬底参考光束测量光束量测设备节距照射辐射源衬底分离光刻系统平面图像源辐射光瞳检查发射干涉

[发明专利]用于对光线进行均质化的方法、光学系统和照明装置-CN201380007632.4有效
发明人： T·W·图克;W·L·伊杰泽曼;S·A·戈登 -专利权人：皇家飞利浦有限公司
申请日： 2013-01-25 - 公布日： 2014-10-22 - 主分类号： G02B6/42 文献下载
摘要：一种用于利用被配置用于对光线进行均质化的细长的光学元件(100)来对光线束(110)进行均质化的方法、光学系统和照明装置。光线束被引入光学元件的横向进入面(101)，并且被引入以下几何区域中的至少一个：(a)进入面的周界的邻近区域；(b)从进入面的中心延伸到角顶(123)的中点的第一线段(R1)的至少一部分的邻近区域；(c)从进入面的中心延伸到边线(122)的中点的第二线段(R2a)的至少一部分的邻近区域。
用于光线进行均质化方法光学系统照明装置

[发明专利]用于点照明的照明系统-CN201080026790.0无效
发明人： T·W·图克;E·伦德里克;R·科特;M·E·J·斯皮克斯 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2010-06-09 - 公布日： 2012-11-28 - 主分类号： F21V7/00 文献下载
摘要：一种用于点照明的照明系统(10)包括具有反射内表面的管状反射器(2)，所述管状反射器(2)具有入口孔(7)和比入口孔(7)大的出口孔(8)；以及光源阵列(1)，其包括被布置为在管状反射器(2)的出口孔(7)处将光发射到管状反射器中的多个光源(13a-c；30a-d、31a-d、32a-d)。以光源阵列(1)的每个对称状态不同于管状反射器(2)的任何对称状态的方式来配置管状反射器(2)和光源阵列(1)中的至少一个。通过避免一致的对称状态，能够减少发射光的优选方向的发生，由此，能够改善相对于发射光的强度和(在适用的情况下)颜色的空间均质性。
用于照明系统

[发明专利]用于照射照明设备前方物体的包括LED的细长照明设备-CN200880112991.5无效
发明人： T·W·图克;D·J·C·范奥尔斯;W·A·G·蒂默斯;E·范利尔 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2008-10-20 - 公布日： 2010-09-15 - 主分类号： F21S4/00 文献下载
摘要：一种用于照射照明设备前方的物体的细长照明设备，包括安装在细长底板(2)上呈单一直阵列的多个侧面发光LED(1)。底板(2)承载在LED(1)阵列的任一侧面上且平行于LED(1)阵列延伸的两个细长反射器(3)。每个反射器(3)具有指向LED(1)阵列的反射表面(4)。
用于照射照明设备前方物体包括 led 细长

[发明专利]用于零满溢照明应用的具有束宽控制的准直模块和设备-CN200880101505.X有效
发明人： E·J·M·波卢森;T·W·图克 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2008-07-25 - 公布日： 2010-08-11 - 主分类号： G02B27/09 文献下载
摘要：提供了准直模块。该准直模块包括圆弧化的光入射侧和矩形光出射侧。也提供了准直设备以及用于提供准直的光的方法。所述准直设备包括：第一准直器，其具有光入射侧和光出射侧；散射部件，其具有光出射表面和邻近所述光出射侧而设置的光入射表面。该准直设备还包括具有邻近所述光出射表面而设置的光入射侧的准直模块。
用于零满溢照明应用具有控制模块设备

[发明专利]发光二极管模块-CN200780008229.8有效
发明人： A·L·韦杰斯;M·H·R·兰克霍斯特;L·王;T·W·图克 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2007-02-22 - 公布日： 2009-04-01 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种发光二极管(LED)模块，其包括至少一个具有光发射表面的LED芯片(12)，和陶瓷转换片(14)。该LED模块的特征是，所述的陶瓷转换片包括覆盖LED芯片的光发射表面的第一部分的第一区段(18)，和在第一区段旁边的第二区段(20)，第二区段(20)覆盖LED芯片的光发射表面的第二部分，其中，至少一个区段包括用于将LED芯片的发射光转换成某个波长的波长转换材料。本发明也涉及一种制造这种LED模块的方法，还涉及一种用于LED模块中的陶瓷转换片。
发光二极管模块

[发明专利]发光二级管模块-CN200780008169.X无效
发明人： A·L·韦杰斯;M·H·R·兰克霍斯特;L·王;T·W·图克 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2007-02-27 - 公布日： 2009-03-25 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种发光二极管(LED)模块(10)，包括：用于发出第一颜色光的第一发光二极管芯片(12)；包括第二发光二极管芯片的发光二极管元件(14)，所述的元件与第一发光二极管芯片并排地放置并且适合于发射第二颜色光；和陶瓷转换板(16)。所述陶瓷转换板只覆盖第一发光二极管芯片的一部分并且包括一种波长转换材料，用于转换第一发光二极管芯片发出的光为第三波长。对于第一发光二极管芯片由陶瓷转换板覆盖的部分的大小进行选择，以使发光二极管模块产生某种期望的颜色的混合光。本发明还涉及制造这种发光二极管(LED)模块的方法。
发光二级模块

[发明专利]光学补偿器、光学元件、光学扫描头和光学扫描设备-CN200680035626.X无效
发明人： T·W·图克;J·J·夫雷亨 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2006-09-15 - 公布日： 2009-02-25 - 主分类号： G11B7/135 文献下载
摘要：一种供光学扫描设备中使用的光学补偿器，所述光学扫描设备用于扫描具有位于第一信息层深度d的信息层(2’)的第一光学记录载体(3’)以及具有位于不同的第二信息层深度d2的信息层(2”)的第二光学记录载体(3”)。所述第一和第二光学记录载体的扫描分别通过使用由具有第一波长的第一辐射束和具有不同的第二波长的第二辐射束在信息层上形成的扫描斑点(16)来实现。所述光学补偿器包括具有环形区的基本上呈圆形的相位结构，所述相位结构设置在第一辐射束和第二辐射束的路径上。所述环形区适用于：施加波前修正到所述第一辐射束，该波前修正在扫描斑点(16)区域上对于入射到所述环形区上的辐射造成相消干涉；以及施加波前修正到所述第二辐射束，以便补偿球差。本发明的另一个方面涉及用于限定辐射束的数值孔径的光学元件。所述光学补偿器或光学元件可以用于双波长或三波长系统。本发明还公开了使用所述光学补偿器的光学扫描头和光学扫描设备。本发明还涉及光学扫描头和光学扫描设备。
光学补偿元件扫描设备

[发明专利]具有固态荧光材料的显示器件-CN200680043885.7无效
发明人： K·布伦纳;A·L·韦杰斯;H·－P·斯托姆伯格;G·H·M·范塔特威克;J·P·雅各布斯;H·－H·贝克特尔;E·伦德林克;L·王;M·范阿斯;E·布尼坎普;M·P·J·皮特斯;O·A·乔普约尔;M·H·R·兰克霍斯特;T·W·图克;C·J·贾林克;P·A·杜因 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2006-11-14 - 公布日： 2008-11-26 - 主分类号： C09K11/77 文献下载
摘要：提供包含多个照明单元(101)的显示器件(100)，每个照明单元包含至少一个装备有荧光元件(203)的发光二极管(202)，该荧光元件(203)布置为吸收至少部分由所述发光二极管发射的光并且发射波长范围不同于该被吸收的光的波长范围的光。荧光元件(203)包含至少一种磷光体，该磷光体是具有通式Ea_xSi_yN_2/3x+4/3y:Eu_zO_aX_b的铕(II)－活化的卤代－氧代硅氮酸盐。
具有固态荧光材料显示器件

[发明专利]用于光扫描设备的光学补偿器-CN200580042497.2无效
发明人： J·J·弗雷亨;T·W·图克 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2005-12-02 - 公布日： 2008-09-03 - 主分类号： G11B7/135 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于扫描光学记录载体的光扫描设备中的光学补偿器(30)，在所述载体中的两个不同载体内部存在着至少两种不同的信息层深度，所述光学记录载体包括第一光学记录载体(3′)、第二光学记录载体和第三光学记录载体，所述扫描设备包括辐射源系统(7)，用于产生分别扫描所述第一、第二和第三记录载体的第一、第二和第三辐射束，所述第一、第二和第三辐射束具有不同的预定波长。所述光学补偿器具有非周期相位结构，所述第一、第二和第三辐射束中的每个辐射束被设置成通过该非周期相位结构，所述非周期相位结构包括多个由阶梯分离的阶梯状环形区域，所述环形区域形成非周期径向图案，所述阶梯状环形区域将第一、第二和第三不同波前修正分别引入到所述第一、第二和第三辐射束中的至少一部分中。光学补偿器包括在多个阶梯状环形区域中的径向高度变化，径向高度变化被设置得使得在多个阶梯状环形区域中的每个环形区域中，由所述光学补偿器向所述第一、第二和第三波前修正中的每种波前修正提供非零贡献。
用于扫描设备光学补偿

[发明专利]球面像差检测器-CN200680019280.4无效
发明人： B·H·W·亨德里克斯;S·斯塔林加;C·T·H·F·里登鲍姆;S·凯帕;A·H·J·英明克;T·W·图克 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2006-05-22 - 公布日： 2008-05-28 - 主分类号： G11B7/135 文献下载
摘要：一种对至少一种光学记录载体(3)的至少一个信息层(2)进行扫描的光学扫描设备(1)。该设备包括：至少提供包括第一波长的第一辐射光束(4)的辐射源(7)，使第一辐射光束会聚到相应信息层(2)上的物镜系统(8)，检测第一辐射光束从相应的信息层反射的至少一部分(22)以确定所述层(2)上的信息的信息检测器(23)，以及球面像差检测系统。球面像差检测系统包括检测所反射的第一辐射光束的至少一部分以确定第一辐射光束的球面像差的像差检测器(24)，以及使所反射的第一辐射光束的至少一部分向像差检测器(24)衍射并且使所反射的第一辐射光束的至少一部分向信息检测器(23)透射的衍射单元(26)。在第一工作模式，光栅被设置为对辐射光束的入射部分引入使该部分向信息检测器(23)透射的相位变化。而在第二操作模式，光栅被设置为对所反射的第一辐射光束的入射部分引入使该部分向像差检测器(24)衍射的相位变化。
球面检测器

[发明专利]多辐射束光学扫描设备-CN200680015113.2无效
发明人： B·H·W·亨德里克斯;S·斯塔林加;S·凯帕;T·W·图克;C·T·H·F·利登鲍姆;A·H·J·英明克 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2006-04-26 - 公布日： 2008-04-30 - 主分类号： G11B7/135 文献下载
摘要：一种用于扫描光学记录载体(3)的信息层(2)的光学扫描设备(1)。该设备包括用于提供沿第一光学路径的至少第一辐射束、和沿不同的第二光学路径的第二辐射束的辐射源(7)。物镜系统(8)把所述辐射束会聚在所述信息层(2)上。光束偏转元件(30)被设置来向物镜系统的光轴折射所述第二辐射束。光束偏转元件包括至少一种流体(A)。控制器被提供来改变流体的配置以控制在预定的范围上由光束偏转元件所提供的折射量。
辐射光学扫描设备

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