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[发明专利]一种用于光刻机器的集成传感器系统的电容式感测系统-CN201610064253.4有效
发明人： G.德波尔;J.J.J.范巴尔;K.P.帕德耶;R.莫赛尔;N.弗吉尔;S.W.H.K.斯廷布林克 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-12-29 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： G01D3/036 文献下载
摘要：一种用于光刻机器的集成传感器系统的电容式感测系统，该电容式感测系统包括用于测量所述电容式传感器与靶材之间的距离的两个或更多个电容式传感器、用于为所述电容式传感器供电的一个或多个AC电源、以及用于处理来自所述电容式传感器的信号的信号处理电路，其中所述传感器被成对配置，其中所述一个或多个AC电源被配置成以交流电流或电压为一对传感器中的第一传感器供电，该交流电流或电压与供应给该对传感器中的第二传感器的电流或电压相位相差180度，且其中所述信号处理电路配置成从该对传感器中的每一传感器接收输出信号，并基于接收到的输出信号产生有关于该对传感器与靶材间的平均距离的测量数值。
一种用于光刻机器集成传感器系统电容式感测

[发明专利]带电粒子多子束光刻系统和冷却配置制造方法-CN201380037560.8有效
发明人： J.P.斯普伦杰斯;C.奥滕;R.贾杰;S.W.H.K.斯廷布林克;J.J.科宁;W.H.厄尔巴努斯;A.H.V.范维恩 -专利权人：迈普尔平版印刷IP有限公司
申请日： 2013-05-14 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： H01J37/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种带电粒子多子束光刻系统，包括用于生成子束的子束发生器、用于形成经调节子束的子束调制器，以及用于将经调制子束投影至目标表面上的子束投影器。发生器、调制器和/或投影器包括一个或多个设置有孔径的板，其孔径使子束通过板。孔径被分组，以形成波束区域，其区别于无子束孔径的非波束区域。具有孔径的板中至少一个设置有冷却配置(93)，冷却配置被部署在其非波束区域中表面上。冷却配置包括板形主体，其具有用于接收冷却液体的入口(31)、用于在其中运送冷却液体的多个冷却通路(94)，以及用于移除冷却液体的出口(35)。在冷却通路之间，板形主体具有与波束区域对准的缝隙(34)。
带电粒子多子束光刻系统冷却配置制造方法

[发明专利]具有差动对的电容式感测系统-CN201080065050.8有效
发明人： G.德波尔;J.J.J.范巴尔;K.P.帕德耶;R.莫赛尔;N.弗吉尔;S.W.H.K.斯廷布林克 -专利权人：迈普尔平版印刷IP有限公司
申请日： 2010-12-29 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： G01B7/02 文献下载
摘要：一种电容式感测系统，包括两个或更多个电容式传感器（30a、30b）、用于供电给该电容式传感器的一个或多个AC电源（306a、306b）、以及用于处理来自传感器的信号的信号处理电路。这些传感器被布置成对，其中一个或多个AC电源被配置成以交流电流（307）或电压供电给一对传感器中的第一传感器，该交流电流或电压与供给该对传感器中的第二传感器的电流或电压相位相差180度，且其中一对传感器提供针对单一测量距离数值的测量单元，该信号处理电路从该对传感器中的每一传感器接收输出信号，并产生有关于该对传感器与靶材（9）间的平均距离的测量数值。
具有差动电容式感测系统

[发明专利]集成传感器系统-CN201080065060.1无效
发明人： G.德波尔;J.J.J.范巴尔;K.P.帕德耶;R.莫赛尔;N.弗吉尔;S.W.H.K.斯廷布林克 -专利权人：迈普尔平版印刷IP有限公司
申请日： 2010-12-29 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种用于光刻机器的集成传感器系统，该系统包括用于将一个或多个曝光射束聚焦至靶材上的投射透镜系统(132)、用于承载靶材(9)的可移动平台(134)、用于进行有关投射透镜系统的最后聚焦组件(104)和靶材(9)的表面间的距离的测量的电容式感测系统(300)、以及控制单元(400)。该控制单元(400)用于至少部分地依据来自电容式感测系统的信号控制可移动平台(134)的移动而调整靶材(9)的位置。该电容式感测系统(300)包括多个电容式传感器(30)，每一个电容式传感器(30)均包括薄膜结构。该电容式传感器和投射透镜系统的最后聚焦组件(104)直接安装至共同基座(112)，且该传感器被放置于极为接近投射透镜系统的最后聚焦组件的边缘处。
集成传感器系统